Conference Introduction

会议简介

近年来,宽禁带半导体和超宽禁带半导体等新型功能材料及器件与异质异构集成、3D封装等先进工艺相结合,正在推动半导体技术呈现出多元化创新和加速迭代的新态势。相关技术催生新一代高性能、低功耗、多功能集成的半导体解决方案。由中国科学院人事局主办,中国科学院苏州纳米所纳米加工平台承办,上海材料与制造大型仪器区域中心和苏州纳米科技发展有限公司协办的第十三届半导体器件与加工工艺论坛,将于2025年10月22-24日在苏州国际博览中心举办。论坛邀请来自高校、研究所及企业专注于新型半导体材料与器件及其异质异构集成技术方面的著名人才专家传授相关专业知识,深入剖析新型半导体材料与器件的技术知识难点,分析先进的异质异构技术走势,进行深入浅出的理论培训和技术研讨。本次论坛为公益培训,旨在为相关行业技术人才提供一个学习交流机会,免费参加,名额有限,欢迎广大同学、科研人员和技术人员积极报名参加。

Conference Organizers

会议组织

主办单位

    • 中国科学院人事局

承办单位

    • 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

协办单位

    • 上海材料与制造大型仪器区域中心
    • 苏州纳米科技发展有限公司

Main Topics

主要议题

本次会议的讨论主题范围包含但不限于:

2024 Agenda Review

2024年议程回顾

时间: 时间:10月23日
地点: 苏州国际博览中心A108
主持人: 曾中明,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员,纳米加工平台主任
时间: 10月24日
地点: 苏州国际博览中心A108
主持人: 张宝顺,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员
主持人: 时文华,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所正高级工程师/纳米加工平台副主任
时间: 10月25日
地点: 纳米加工平台、中试平台
第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
陈林森
苏州大学、苏州苏大维格科技集团 教授

     个人简介:苏州大学研究员,博士生导师,国务院特殊津贴专家。从事微纳光学与柔性制造、新型显示上游材料与器件、数字光刻与纳米压印技术研究与应用。曾主持国家863计划重大项目、国家重大科学仪器设备专项、国家自然科学基金重点项目等,在三维光刻技术与设备、卷对卷纳米压印技术与工艺、微纳光学材料与器件、新型显示技术等方面做出系统性和开拓性工作,研究成果在国内外广泛应用。作为主持人,先后获3项国家科技进步二等奖和5项江苏省科技奖一等奖,荣获全国“发明创业奖·人物奖”特等奖并被授予“当代发明家”称号和第四届“杰出工程师奖”。在Light, PRL, Adv.Mater., EES, and Optica发表论文190余篇,发明专利200余项(其中7项中国专利优秀奖)。苏州苏大维格科技集团创始人(创业板上市),现主持国家重点研发项目(首席)。

     摘要:数字互联网技术的快速发展推动了显示技术的不断转型升级。元宇宙时代的到来对显示技术在能效、亮度、可靠性和可穿戴性等方面提出了更高要求,旨在实现无缝自然的数字显示体验。Micro-LED是变革性新型显示技术,可满足新一代智能显示对高像素密度、高亮度率发光器件的重大需求。本报告将主要介绍我们在微显示领域的主要研究进展。我们开发了侧壁钝化、表面纳米图形化等工艺,攻克了小尺寸发光器件构筑瓶颈,通过载流子注入、传输与复合行为优化,实现了超小尺寸(1.5微米)、高发光效率效率垂直结构硅基微型发光器件阵列;发展了三维堆叠单片集成工艺(VSP),将硅基半导体集成电路工艺成功应用于微型发光显示芯片的研发,开发了世界上最小(米粒大小)、单点CMOS驱动的微显示屏,像素密度高达1万PPI,亮度超过100万尼特,相关成果在TCL雷鸟等公司推广应用。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
潘安练
湖南师范大学 副校长、教授

     个人简介:潘安练,湖南师范大学副校长,国家自然科学基金创新研究群体项目负责人、国家杰出青年基金获得者、科技部重大研究计划首席科学家、湖南省光电集成创新研究院主任。长期聚焦光电集成材料与器件研究,突破了低维半导体能带调控、高性能红外薄膜构筑、硅基微显示芯片开发等瓶颈问题,相关成果在Science, Nature Nanotechnology, Nature Electronics, Nature Materials等国际知名期刊上发表论文400余篇,获授权发明专利40余项。以第一完成人荣获2019年度国家自然科学二等奖、湖南省自然科学一等奖(2010年、2017年)、湖南省创新团队奖(2022年)、颠覆性技术大赛总决赛优胜奖(2022年)和中国发明展览奖金奖(2024年)等奖励。

     摘要:数字互联网技术的快速发展推动了显示技术的不断转型升级。元宇宙时代的到来对显示技术在能效、亮度、可靠性和可穿戴性等方面提出了更高要求,旨在实现无缝自然的数字显示体验。Micro-LED是变革性新型显示技术,可满足新一代智能显示对高像素密度、高亮度率发光器件的重大需求。本报告将主要介绍我们在微显示领域的主要研究进展。我们开发了侧壁钝化、表面纳米图形化等工艺,攻克了小尺寸发光器件构筑瓶颈,通过载流子注入、传输与复合行为优化,实现了超小尺寸(1.5微米)、高发光效率效率垂直结构硅基微型发光器件阵列;发展了三维堆叠单片集成工艺(VSP),将硅基半导体集成电路工艺成功应用于微型发光显示芯片的研发,开发了世界上最小(米粒大小)、单点CMOS驱动的微显示屏,像素密度高达1万PPI,亮度超过100万尼特,相关成果在TCL雷鸟等公司推广应用。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
张珂
深圳市思坦科技有限公司技术中心总监
第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
廖蕾
湖南大学教授

     个人简介:廖蕾现任湖南大学半导体学院(集成电路学院)教授。分别于2004年和2009年在武汉大学获得物理学学士学位和物理学博士学位,之后在加州大学洛杉矶分校完成博士后研究。他于2011年加入武汉大学物理学院,担任教授。2017年加入湖南大学,廖教授对基于二维半导体和金属氧化物薄膜晶体管的异质集成和器件架构进行了研究。至今,在Nature、 Nature Nano., Nature Electron., Nature Commun., Nano Lett., 和 Adv. Mater.等SCI期刊上发表了200多篇论文,论文引用超过20000次,相应的H因子为81。被任命为IEEE TED、Frontier of Physics、Journal of Semiconductor和Chinese Physics Letters的编辑。曾获湖南省、教育部科学技术一等奖等。

     摘要:基于金属氧化物半导体(MOS)的互补薄膜晶体管(TFT)电路在大规模柔性电子领域具有广阔的应用前景。为了简化电路设计并提高集成密度,基本的互补电路需要基于单个半导体的p沟道和n沟道晶体管。然而,到目前为止,还没有报道过可以同时显示p型和n型导电行为的TFT器件。在此,我们做出了具有掺铜SnO(Cu:SnO)的HfO2帽层的高性能p沟道和n沟道TFT。间隙层的Cu+可以诱导n掺杂效应,同时通过消除导带最小简并来抑制电子-电子散射。因此,Cu3atom%:SnO TFT显示出43.8 cm2 V−1 s−1的创纪录的高电子迁移率。同时,p沟道器件显示出2.4 cm2 V−1 s−1的超高空穴迁移率。然后建立灵活的互补逻辑,包括反相器、与非门和非门。该逆变器具有302.4的超高增益和出色的运行稳定性和弯曲可靠性。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
康永印
复旦大学义乌研究院研究员

      个人简介:康永印,复旦大学义乌研究院研究员,光电材料与器件实验室主任。2010年博士毕业于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,2017年浙江大学物理化学博士后流动站出站。2010年起任职于纳晶科技股份有限公司,任职技术总监/正高级工程师。20236月加入复旦大学义乌研究院,建立光电材料与器件实验室。

      摘要:2023年度诺贝尔化学奖授予了BawendiBrusEkimov三位学者,以表彰他们在发现与合成量子点方面的突出贡献。而量子点技术早已率先在显示产业应用落地,从量子点玻璃管到量子点光转换膜和量子点扩散板,量子点背光搭配液晶带来了色域提升和优秀的画质体验,而新一代的量子点像素级应用QD OLED产品也由三星显示推出并受到广泛好评,QD µLEDQD EL应用也受到学术界和产业界的关注和追捧,本报告介绍了量子点显示广阔的应用前景及面临的挑战。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
袁俊旗
三极光电科技(苏州)有限公司 董事长

     个人简介:

三极光电科技(苏州)有限公司   CEO

暨南大学研究生协同培养育人基地   校外导师

资深全息衍射光学实务专家

项目经历

1.主导具有特种全息光学元件的光机系统的研制,经专业测试各项性能处国内顶尖水平。

2.主导完成波导仿真设计工具“Wade”的开发以及高性能全息波导头盔显示研发项目。

3.主导大面积全息衍射光波导的研制项目和大视角视网膜全息光学元件的研制工作。

申请国家专利30余项,在全息光学元件设计,制造和量产工艺等方面具有丰富经验。

     摘要:全息衍射光学属于泛半导体方向,是一个涉及全息光刻材料、非序列矢量亚波长器件软件及设计、全息干涉光场调制及工艺的综合性基础学科,在全息显示、全息存储、测量、测试、基准定位、扫描、瞄准、安全保密等有着广泛用途,覆盖半导体高制程光刻机、航空、导弹引导追踪、单兵作战、车载、AR元宇宙、消费电子、生物医疗仪器等百亿、千亿、万亿体量的多个领域。近来越来越受产业瞩目。本报告从全息衍射光学的材料、仿真设计、工艺、市场应用等展开阐述。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
范谦
苏州汉骅半导体有限公司副总裁

     个人简介:范谦博士,毕业于Virginia Commonwealth University,电子工程专业。在美国有15年以上的半导体芯片工艺产业经验,归国前任Ostendo Technologies Inc研发总监(Director of R&D)。目前在苏州汉骅半导体有限公司担任副总职务,主要研究方向为半导体芯片工艺,3DIC,晶圆键合,宽禁带半导体材料等。他带领研发团队使用独创的3DIC混合集成技术对氮化镓LED和集成电路CMOS进行异质晶圆键合,实现了3×4微米大小的Micro LED阵列的点亮以及视频流展示。

     摘要:Micro-LED作为新一代显示技术,因其高亮度、高对比度、低功耗、长寿命等优势,被视为未来显示技术的重要发展方向。而3DIC技术的引入,为Micro-LED微显示领域带来了更多的创新机遇和广阔的应用前景。本主题在简要介绍3DIC技术的发展过程同时,聚焦其关键的半导体工艺技术,并对其在Micro-LED微显示领域的应用和研究做出简要介绍。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
夏伟
山东华光光电子股份有限公司,济南大学教授

     个人简介:夏伟,济南大学教授、博导,山东华光光电子股份有限公司技术顾问,山东省半导体激光技术创新中心主任。一直从事化合物半导体激光芯片、器件及应用的研究开发。主持过国家重点研发计划、国家“863计划”、工信部专项基金等重大项目二十余项,曾获得过山东省科技进步一、二、三等奖,山东省技术发明二等奖,中国发明协会发明创新二等奖等奖励。曾获山东省有突出贡献中青年专家、中国电子学会优秀科技工作者、齐鲁行业工匠、济南市技术拔尖人才等称号。

     摘要:640-670nm波段半导体激光芯片体积紧凑、工作可靠、电光转换效率高,已经被广泛应用于激光显示和激光投影等领域。显示中为实现更高色域,依赖于以640nm波段半导体激光器为核心的RGB合成激光源作为投影光源,因此,激光显示领域对大功率红光半导体激光芯片提出了迫切的需求。我们通过低损耗化合物外延层生长、芯片结构系统优化设计,有效提升了640nm大功率半导体激光芯片的效率和输出功率,并利用高质量AlGaInP异质结MOCVD 外延生长技术,实现单芯片最大输出功率超过 4W,电光转换效率达到 38%,激光器40℃壳温下实测1000小时稳定工作功率无衰减,可满足激光投影、激光显示和激光测量等领域对红光大功率半导体激光器的需求。此外,我们还对满足85℃高温环境可靠性的长寿命670nm-10mW基横模激光芯片进行了研发,芯片在高温环境下实测连续工作5040小时,样品平均功率下降幅度低于15%,具备宽温度范围内高可靠性,可满足激光测量、传感、激光投影和照明等领域对高可靠性激光器芯片的需求。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
刘建平
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员

       个人简介:刘建平,中科院苏州纳米所研究员,江苏省333高层次人才。一直从事GaN基材料与激光器和MOCVD 技术研究。主持国家重点研发计划课题、国家基金委重点项目,研制出国内第一支室温连续工作的GaN绿光激光器和大功率蓝光激光器。在Light: Sci & Appl.、Photonics Research、Science China Materials、Appl. Phys. Lett.、Optical Express等期刊发表SCI收录论文100余篇,获授权专利20件。担任国际电工委员会激光显示专家,国家标准化管理委员会激光分委会委员。

       摘要:GaN激光芯片是激光显示、高亮照明、有色金属加工、3D打印和数字光刻等战略新兴产业不可或缺的新型高效半导体光源。在这个报告中,我将从芯片结构、外延生长、工艺制备等方面报告我们在GaN可见光激光芯片的研究进展,介绍我们单管5W光功率、电光效率40%的蓝光激光芯片,以及紫光和绿光波段的激光芯片。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
葛明伟
维信诺科技股份有限公司产品工程中心总经理助理

       个人简介:维信诺科技股份有限公司产品工程中心总经理助理,主要负责电子开发平台、模组开发平台、合肥及广州模组厂开发团队。

       参与中国大陆第一颗AMOLED 驱动IC的规格制定及开发,参与大陆首款量产AMOLED的产品开发及相关点灯设备开发工作,掌握相关产品驱动、电源芯片的发展趋势。

       摘要:随着显示行业的不断进度,AMOLED显示在中小屏幕领域已经逐步替代LTPS成为主流,产品新技术也是逐年叠加,新技术的加持让随之配套的驱动IC在几年的发展中不不断迭代。

       本文主要基于AMOLED的发展现状,介绍驱动IC在现阶段的技术状况、规格需求及国产化进度,同时结合现有显示产业针对AMOLED新产线及新技术的布局,对未来驱动IC的发展方向做了猜想,同时针对未来相关芯片产业的发现提出期望。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
吕志坚
深圳技术大学 中心副主任

     个人简介:吕志坚博士2011年毕业于华中科技大学取得通信专业学士学位,并于2014年和2017年在美国亚利桑那州立大学取得电子信息工程硕士和博士学位。2017年12月到2018年12月,吕志坚博士在Analog Devices Inc从事汽车工业电子芯片设计工作。2019年4月至2021年8月,吕志坚博士在南方科技大学电子与电气工程系,担任副研究员和硕士生导师。同时,担任深圳市思坦科技有限公司的设计部部长,开发面向AR/VR Micro-LED新型显示。2021年9月至今,吕志坚博士加入深圳技术大学中德学院智能制造学院,担任学院电路与电子中心副主任。

研究方向围绕Micro-LED和LCoS微显示驱动芯片及驱动系统、面向汽车工业电子的PMIC芯片、LDO芯片、DC-AC光伏逆变器展开。发表 SCI 和EI论文45篇,ESI高引论文1篇,其中一作和通讯作者20篇,被引用1300余次,H-Index 17。申请中国专利46项,其中授权27项;申请美国专利2项,其中授权1项;PCT检索报告公开5项。主持科研项目11项,科研经费累计800余万元。同时有超过5年丰富的国内外行业头部企业技术与管理经验。致力于协助华为、上市公司、专精特新企业、国家高新企业和科研院所解决痛点难点问题。

     摘要:AR/VR是元宇宙重要的人机交互平台,其中光学成像部件和微显示屏是成像质量的关键。作为微显示两种重要技术,报告将简单介绍硅基Micro-LED和硅基液晶(LCoS)微显示屏的组成结构、工艺流程、硅基驱动方式方法、发展现状以及面临的挑战。在硅基驱动电路与芯片部分,将从实际项目的角度,着重分析其驱动设计和指标挑战。最后,探讨Micro-LED和LCoS硅基驱动电路芯片的关注点和未来趋势。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
崔永鑫
成都辰显光电有限公司研发总监

     个人简介:

1、担任公司研发总监,主导了公司Micro-LED中试产线的规划、设备评估和建设;

2、主导公司Micro-LED TFT驱动背板、巨量转移、检测、修复、封装以及模组技术规划和落地;

3、申请专利59件。

     摘要:介绍Micro-LED显示技术产业发展和辰显光电的进展。并针对Micro-LED显示技术中巨量转移技术的瓶颈给出一种解决方案。详细介绍激光辅助键合技术在Micro-LED显示技术中的应用,并展示了该技术在实现高生产力和低成本键合中的有效性。同时,介绍辰显光电在TFT基Micro-LED显示项目上的进展。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
尹维
南京理工大学副研究员

    个人简介:尹维,南京理工大学,副研究员,博士。目前主要从事光学三维成像的技术研究与系统应用,主持科技部国家重点研发计划项目课题、国家自然科学基金青年基金、博士后特别资助(站中)和面上项目等。以第一作者在Opto-Electron. Adv.、ACS Photonics等期刊上发表学术论文十余篇,获中国授权发明专利13项。入选2023年度全球前2%顶尖科学家“年度影响力榜单”、江苏省卓越博士后计划,获中国光学工程学会技术发明一等奖、中国光学工程学会创新论文奖(原光学工程优博论文),研制仪器获中国光电仪器品牌榜金燧奖、工信部智能检测装备创新产品目录(第一批)等。

     摘要:随着光电信息技术的快速发展,三维成像与传感已成为光学计量和信息光学领域的重要研究方向之一。条纹投影轮廓术因其非接触、高分辨率、高速和全场自动化等优点,成为目前最具代表性的三维成像技术之一。近年来,随着光电器件和数字信号处理技术的快速发展,人们也随之对条纹投影轮廓术提出了更高的期许——既要“精度高”,又要“速度快”。尽管二者似乎天生就是一对矛盾体,但“速度”已经逐渐成为采用条纹投影轮廓术时所要考虑的“必要因素”。针对结构光三维成像而言,仅采用一幅投影图案实现高精度三维重建才是研究人员永恒追求的终极目标。如今,深度学习技术已经“渗透”到光学计量与计算成像领域。本次报告将介绍我们团队将深度学习方法应用于条纹投影轮廓术的近期工作,证明了基于深度学习的条纹分析方法可以显着提高单帧条纹相位重建精度和质量,有望填补三维成像与二维传感之间的速度“鸿沟”,实现真正意义上的单帧、高精度、无歧义的三维重构,为复杂、高速运动物体的三维面型准确的测量开辟新途径。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
张晓东
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员

       个人简介:张晓东,研究员、博士生导师,获得中国科学技术大学博士学位、全国五一劳动奖章、中国科学院技术支撑人才、苏州好青年等。2007年加入中国科学院苏州纳米所纳米加工平台,长期从事半导体材料与器件、工艺相关研发,包括氮化镓Micro-LED与HEMT器件,超宽禁带半导体氧化镓、六方氮化硼、氮化铝薄膜外延生长、功率电子与光电器件、以及特性研究等。近年来主持了多项国家、省市级科研项目,在国际主流期刊发表SCI论文80余篇,申请国内外发明专利40余项。

       摘要:随着包括增强现实(AR)的扩展现实(XR)技术的发展,高度微型化、集成化成为了显示领域主要发展趋势,Micro-LED被认为是未来最具潜力的新型显示技术。本讲座从Micro-LED显示技术的相关技术,以及纳米加工平台的开放式8英寸Micro-LED工艺线进行介绍,并讨论Micro-LED显示的未来发展。

第十三届半导体器件与加工工艺论坛
演讲嘉宾
曾春红/林文魁
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所副研究员/中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所副研究员
专业观众登记入口 立即报名