Conference Introduction

会议简介

纳米压印技术自1995年发明以来,至今已走过辉煌的 30 年历程。因其优异的技术特点:高分辨,低成本,高产能,诞生之初就被认为是一种明星技术,是纳米光学的里程碑,被美国麻省理工科技周刊评为“将改变世界的十大新兴技术之一”,得到了学术界和产业界的广泛关注,被纳入到国际半导体产业技术发展蓝图(ITRS)。

随着时间推移,纳米压印技术持续迭代升级,不断拓展应用边界,纳米压印技术的价值愈发凸显。在国内,各大科研院所与高校的微纳加工平台纷纷引入纳米压印设备,部分顶尖研究院所更是前瞻性地引入多套设备,为技术研究筑牢硬件根基。据不完全统计,国内已有数百个课题组和项目组引入纳米压印技术相关课题研究,从基础原理探索到应用创新开发,全方位发力,推动国内纳米压印技术迅猛发展,步入快车道。

但是,纳米压印技术的蓬勃发展不仅仅依托于学术界的科技积累,更是依靠于产业界的不断夯实和验证。自1999年纳米压印技术开始走向市场,Nanonex、Obducat以及美国的Molecular Imprint Inc.等先驱企业便积极投身其中,通过技术研发、产品推广,为纳米压印技术的普及与应用开辟道路。Suss、EVG的加入更有力推动了纳米压印技术的工业化进程。近几年,全球产业界对大批量、高精度微纳加工的需求呈井喷式增长,中国市场尤为突出。在微纳光学元器件领域,从AR镜片、DOE、TOF到MLA,纳米压印技术助力打造高性能光学元件;在生物医药领域,生物芯片、微流通道、微针等创新应用场景不断涌现。大批高科技初创公司如雨后春笋般涌现,诸多大型上市公司也纷纷布局,投入海量经费与资源,不断赋能相关产业链,为纳米压印技术注入源源不断的发展动力。国内的苏大维格(2001年成立)、无锡英普林(2008年成立)、苏州光舵(2012年成立),以及苏州新维度、青岛天仁、上海埃眸、杭州欧光芯、西安华天慧创等一批新兴力量,各展所长,共同将我国纳米压印技术产业化推向新高度,在全球竞争格局中崭露头角。

在学术交流层面,纳米压印领域一直保持活跃态势。海外很早就举办了相关主题学术会议,美国EIPBN会议、欧洲MNE会议以及日本MNC会议,在纳米压印技术发展初期,便专门开设分会,为全球科研人员搭建交流平台2002年,首届NNT会议成功召开,标志着纳米压印行业拥有了专属的国际交流盛会,进一步加速技术信息流通与创新思想碰撞。在国内,2023年首届NTAC全球纳米压印技术与应用大会于苏州盛大开幕,国内纳米压印领域专家学者齐聚一堂,为国内学术界与产业界精英搭建起跨国界、跨学科、跨领域的交流桥梁。大会邀请到21位国内外行业大咖,围绕前沿技术与最新成果展开深入研讨,现场气氛热烈,成果丰硕。2024年,第二届NTAC大会再度升级,“纳米压印技术之父”普林斯顿大学周郁教授、瑞典隆德大学的Lars Montelius教授等21位全球科研专家及企业代表汇聚,聚焦纳米压印技术最新进展与应用,深入剖析行业痛点与发展方向,为技术突破与产业升级出谋划策。NTAC大会已然成为纳米压印技术领域的顶级交流平台,持续为行业发展注入智慧源泉。

2025 年,正值纳米压印技术诞生30周年,第三届 NTAC 大会暨纳米压印技术30周年特别活动将于金秋10月在苏州盛大召开。会议由姑苏实验室主办,苏州新维度微纳科技有限公司承办,聚合顶级行业资源,聚焦纳米压印技术创新,聚力产业共建共赢,共同探讨纳米压印领域的前沿热点问题和研究成果。届时,行业专家、学者、企业代表将再度汇聚,共同为突破纳米压印技术制造领域发展瓶颈出谋划策,全力推动国内制造业技术革新与产业腾飞,在纳米压印技术30年发展的新征程上,续写更加辉煌的篇章。

Conference Organizers

会议组织

主办单位

    • 姑苏实验室

承办单位

    • 苏州新维度微纳科技有限公司

协办单位

    • 苏州纳米科技发展有限公司

Main Topics

主要议题

2025 Agenda Overview

2025年议程总览

时间: 10月22日
地点: 苏州国际博览中心A馆A109会议室
主持人:罗刚,姑苏实验室研究员,苏州新维度微纳科技有限公司CEO
时间: 10月23日 上午
地点: 苏州国际博览中心A馆A109会议室
时间: 10月23日 下午
地点: 苏州国际博览中心A馆A109会议室

罗刚
姑苏实验室研究员,苏州新维度微纳科技有限公司CEO

Lars Montelius
隆德大学名誉教授,前国际伊比利亚纳米技术实验室总干事,Obducat公司创始人
嘉宾简介:Lars Montelius教授作为纳米压印技术的开创者之一,深耕纳米科技领域30年。他工作围绕应用于多种纳米设备的光刻及处理技术,尤其是纳米压印及光刻技术细分领域,他和团队发表了多篇极具影响力的论文。截至目前,已累计发表学术论著超170篇,受邀发表演讲80多次,并且已经申请54个专利,在纳米科技界留下了深刻的学术印记。2003-2009,他曾担任隆德大学科学与工程学院物理系主任,展现出卓越的学术领导力。2009-2011,他任职Øresund大学及Øresund科学区的总监(该组织是Øresund地区11所大学、3个地区政府及2个国家的跨境合作机构)在他的引领下取得了诸多成果。2007-2012,担任瑞典纳米科技标准化技术委员会的主席,为纳米科技领域的标准化进程做出了重要贡献。2014年9月1日起,Lars Montelius教授出任葡萄牙布拉加地区伊比利亚国际纳米技术实验室的总监一职。曾担任国际真空科学技术与应用联盟主席,同时还是欧盟NMBP(纳米科技,先进材料,生物技术及先进制造处理)专家组决策层成员以及欧洲两大科技平台NANOFutures和EuMat的董事会成员及工作组负责人。

周郁
美国普林斯顿大学Joseph C. Elgin讲席教授
演讲嘉宾简介:周院士1986年在麻省理工学院(MIT)获博士学位,是普林斯顿大学的Joseph C. Elgin讲座教授。周院士是三家初创公司的创始人和创始董事会主席:Nanonex公司、NanoOpto公司和Essenlix公司,也是BioNano Genomics公司的联合创始人。周教授获得了众多奖项和荣誉,包括美国国家工程院院士(2007)、美国国家发明家学院院士(2013),并荣获IEEE Cledo Brunetti奖(2004)、IEEE纳米技术开拓者奖(2014)以及纳米压印开拓者奖(2015)。他也是Packard院士(1990)、IEEE院士(2000)、美国真空学会(AVS)院士(2010)、美国光学学会(OSA,现称Optica)院士(2011)、国际纳米制造学会(ISNM)院士(2010),并于2004年入选新泽西高科技名人堂。周院士的技术发明两次被《麻省理工科技评论》评为“将改变世界的十大新兴技术”:2003年(纳米压印)和2007年(用于DNA测序、图谱和操控的纳米通道)。在过去的四十年中,周院士的开创性研究涵盖了多个领域,包括纳米制造、广泛的纳米器件(电学、光学、磁学和生物)及其应用、生物工程和医学诊断。周院士的突破性发明、开创性工作和远见以及创业精神极大地重塑和推动了这些领域的发展;创造了多个全新的研究领域,催生了多个新兴产业,被广泛应用于众多学科和工业部门,产生了数百亿美元的商业,变革了学术界和工业界,并为经济和社会带来了深远的益处。周院士是公认的纳米压印之父,他于1995年发明了纳米压印技术,开创了纳米压印领域; 于1997年创立了首家纳米压印公司,开创了纳米压印产业。 在过去的三十年里,周院士一直是纳米压印技术及其在广泛领域应用发展的杰出领袖、发明家、开发者、和推动者, 对纳米压印领域(学术界和工业界)做出了革命性开创性和革命性的贡献。 周院士也是纳米压印应用的奠基者,全球首创将纳米压印技术应用于电学、光学、磁学和生物纳米器件的制造。他于1995年创立了NanoOpto公司 – 世界第一家利用纳米压印技术生产亚波长光学元件(“超材料光学”)的公司。 周院士还是iMOST(即时移动自测)平台的发明人和主要开发者,是公认的iMOST 平台之父,iMOST是一种革命性的诊断平台,能够在任何时间、任何地点,由几乎任何人,在不完美的条件下提供即时、实验室级别准确的结果。他于2013年创立了Essenlix公司,这是首家将iMOST商业化的公司。 此外,周院士还因其在缩小半导体集成电路 (IC)的晶体管到新领域的开创性工作而闻名,特别是1996年实现了第一个室温晶体硅单电子晶体管,以及1997年实现了第一个全包围栅极(GAA)纳米晶体管, 这是当今用于3纳米节点或更小的CMOS中的新型晶体管结构。 周院士的其他工作包括发明和开创了具有独特性能的各种电子、光学、磁学和生物纳米器件,以及多种新的纳米制造方法,其中包括光刻引发的自组装(LISA)、液化自修复(SPEL)和激光辅助直接压印(LADI)。周院士撰写了 700 多篇被广泛引用的期刊和会议论文(H指数97,被引用次数达44,000次),并发表了 230 多场大会主报告和特邀报告。 他是 400 多项专利和申请的主要发明人和主要作者,其中一半以上已获得授权。根据 Google Patents,周院士的技术已被全球 60,000 多项已授权和正在申请中的专利引用。周院士曾担任会议主席、联合主席、项目主席、指导/顾问委员会成员和会议主席150 余次。

陈宜方
复旦大学教授
演讲摘要:值此周郁(Stephen Chou)教授发明纳米压印光刻(nanoimprint lithography, NIL)这一伟大技术30周年之际,本次报告将首先介绍过去三十年间中国在纳米压印领域的整体基础研究和技术发展方面的一些统计数据。随后,本次报告将对复旦大学在纳米压印光刻(NIL)领域的一些研究与成就进行一个简要回顾,这些研究与成就是在2006-2012年期间通过与英国卢瑟福·阿普尔顿(Rutherford Appleton)实验室的国际合作而开展的。其中特别针对环氧树脂类材料(如SU-8)的纳米压印工艺开展了系统性研究,研究内容涵盖模板复制、压印机理、压印参数优化、器件制备、表征及应用等各个方面。相关研究共发表37篇以上SCI论文,成为中国纳米压印光刻早期发展阶段中,复旦大学开展开创性工作的重要里程碑。
演讲嘉宾简介:陈宜方教授于1995年获得英国牛津大学凝聚态物理系博士学位。曾经在荷兰代尔夫特理工大学(1994-1996)、新加坡南洋理工大学(1996)和英国格拉斯哥大学(1997-2002)从事博士后研究工作。2003年至2012年他受聘于英国卢瑟福阿普尔顿实验室的高级科学家并被晋升为纳米科技首席科学家;他是瑞士洛桑理工大学访问教授(2010)和英国国家物理实验室高级访问研究员(2016-2019)。2012年他作为国家海外高端引进人才加盟复旦大学并于2018年获得国务院政府特殊津贴。陈宜方博士自1990年起,长期从事纳米加工与应用的基础研究,运用电子束光刻/纳米压印/干刻蚀等工艺手段服务于新型纳米光电器件与芯片、InP基高电子晶体管、X射线关键光学部件研制、基于超表面材料的偏振器和涡旋光调控器件、二维纳米光子晶体等方面的基础研究。尤其是在X射线纳米显微镜的关键光学部件研制中,他领导的团队填补了国家空白,并成功研发了15纳米分辨率的新型X射线透镜,达到了国际先进水平。发表了150余篇SCI论文,获得10项国家专利授权。他是Elsevier的微电子工程期刊副主编、欧洲研究院(ERC)远程评审专家等。

Helmut Schift
瑞士保罗谢尔研究所先进纳米制造技术组负责人
演讲摘要:瑞士在聚合物复制技术领域具有悠久历史,这得益于其安全防伪产业为纸币及护照等身份证明文件制作防伪特征。除了全息技术外,位于苏黎世的保罗·谢勒研究所(PSI)作为瑞士国家研究机构,还开发了激光写入技术。1994年,我从德国美因茨来到PSI工作,当时已具备LiGA技术背景——这是一种基于光刻、电镀与模塑的微制造技术。1997年,我提交了第一个关于纳米压印(NIL)的项目提案,随后,独立于欧洲项目,我们利用NIL建立了关于聚合物薄膜流变学的基础知识。对我而言,纳米压印本质上就是微压印技术的微型化延伸,因此我们将其命名为热压印光刻。我的第一篇真正意义上关于纳米压印的论文,主题为“聚合物热压印:一种直接的抗蚀剂图形化方法(Hot embossing in polymers as a direct way to pattern resist)”,文中包含在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中实现100纳米以下分辨率压印及图形转移的相关研究。该论文于1997年在微纳米工程(MNE)会议上宣读,并于1998年发表在《微电子工程》(Microelectronic Engineering, MEE)期刊上。此后,PSI参与了两项大型欧洲项目:NaPa项目(2004-2008年)与NaPANIL项目(2008-2012年)。NaPa项目包含了多项成果推广活动,例如在图卢兹大学举办的NaPa暑期学校以及建立的NaPa工艺库。
演讲嘉宾简介:Helmut Schift博士曾就读于德国卡尔斯鲁厄大学专攻电子工程学,后在德国美因茨微技术研究所(IMM)攻读博士学位。其专业领域包括微光学、高纵横比光刻和聚合物复制(LiGA 技术)。1994年毕业后,他加入保罗-舍勒研究所(Paul Scherrer Institute)担任研究人员,并在那里建立了纳米压印光刻(NIL)技术平台。作为先驱者之一,H. Schift博士开发了采用拓扑和化学表面对比的功能表面图案化使能技术,并成功将这些工艺用于不同的研究和应用领域。自 2001 年起,他在北威州应用科学与艺术大学(Fachhochschule)担任讲师,为工程专业学生讲授 "微纳米技术"。2002年,他成为聚合物纳米技术小组(INKA-PSI)负责人。在2011年公休假期,他受聘于丹麦技术大学(DTU),担任微纳米技术系光流体小组的客座教授(Velux 补助金)。H. Schift博士合著撰写了140篇科学论文(包括综述和书籍章节),并担任《NaPa 工艺图书馆》的编辑。他曾指导过多个科学项目,并参加过多个博士评审团。此外,H. Schift博士还在欧洲FP7 NaPANIL项目(2008-2012 年)中担任子项目负责人,其工作时间超过1000人月。他曾获瑞士技术奖(2005 年,Sonderpreis Ostschweizer Kantone)和纳米压印先锋奖(2016 年)。2016 年,他被《AVS 真空科技期刊》评为最有价值的审稿人之一。自 2019 年起,H. Schift博士担任 PSI 研究诚信顾问(30%)。为此,他于2021年在苏黎世大学完成了应用伦理学 MAS(高级研究硕士)课程的学习。

罗刚
姑苏实验室研究员,苏州新维度微纳科技有限公司CEO

罗锋
南开大学材料科学与工程学院讲席教授
演讲摘要:纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography, NIL)是一种高效且成熟的纳米尺度图形复制技术。该技术具有多项核心优势,包括分辨率高、成本低,且能够在大面积基底上实现均一性优异的图形化。目前,NIL 已在多个领域获得应用,例如半导体制造、生物技术、衍射光学元件以及超构光学元件等。 本报告将介绍面向光学应用的与多种MEMS工艺相结合的光刻胶技术。通过对掩模模具的控制,结合多种刻蚀技术,可在不同材料上制备多层图形,从而进一步拓展 NIL 技术的通用性,发挥其潜在应用价值。
演讲嘉宾简介:罗锋,南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院讲席教授 罗锋现任南开大学材料科学与工程学院讲席教授,西安交通大学兼职讲座教授(2018-2020)。1995 年至 2004 年就读于北京大学化学与分子工程学院,获学士和博士学位。2004年至 2009年在德国和瑞士从事博后工作,2009年至2010年在北京大学工学院担任PI特聘研究员。2010年至2020年就职于西班牙高等研究院纳米研究所,历任副研究员、研究员、终身制资深研究教授,2020 年至今就职于南开大学,先后入选欧盟玛丽居里学者、西班牙杰出青年基金、西班牙 I3 杰出教授、第十五批国家重大人才项目等,目前担任深圳综合粒子研究院科创委委员,深圳产业光源集成电路板块顾问,上海光源用户委员会委员,兰州航空集成电路与新材料研究院理事。

王大伟
深圳市微纳制造产业促进会会长
演讲摘要:促进会自2018年起,持续跟踪全球尤其是我国微纳压印技术产业化的进程,已持续发布了多期《纳米压印技术(专利)产业化研究报告》,十多篇观察文章,架起了纳米压印企业与投资机构、应用客户间的沟通桥梁。本次演讲将分享促进会在观察调研中,对该技术产业化的几点思考。

Lars Montelius
隆德大学名誉教授,前国际伊比利亚纳米技术实验室总干事,Obducat公司创始人

郭凌杰
密歇根大学教授
演讲嘉宾简介:L. Jay Guo 是密歇根大学电气与计算机工程系教授。他从事跨学科研究,研究范围包括基于聚合物的光子器件和传感器应用、柔性透明导体、纳米光子学、结构色彩和人工智能辅助设计、混合光伏和光电探测器,以及纳米制造技术,并由来自电气工程与光学、高分子科学与工程、应用物理学、物理学和机械工程专业的学生共同参与。郭教授共计发表了超过285篇期刊论文,被引用超过32,000次,H指数为 89(谷歌学术)。近年来,他获得多项著名奖项,其中包括密歇根大学颁发的2023年微型世界卓越工程奖(Wise-Najafi Prize for Engineering Excellence in the Miniature World)、2017年香港大学蒙民伟杰出讲师奖(William Mong Distinguished Lecturer)和2015年密歇根大学工程学院颁发的门罗-布朗卓越研究奖(Monroe-Brown Research Excellence Award)。他的专业服务包括《Optica》杂志副主编(至2021年);目前他是《Advanced Optical Materials》和《Opto-electric Science》杂志编辑顾问委员会成员。此外,他还共同创办了两家创业公司,负责将其实验室的技术产业化。

陈林森
苏州大学教授,苏州苏大维格科技集团股份有限公司董事长
演讲摘要:纳米压印光刻技术研究与应用:回顾与展望 自Prof.Steven Chou 1995年提出纳米压印光刻(NIL)概念以来,全球范围内的研发已逾30年。NIL已在显示、光电子和生物芯片等领域实现重要的技术突破与产业应用,体现了高通量、高精度与低成本纳米制造的优势。 报告回顾了过去二十余年中,在苏大维格(SVG)团队推动中国纳米压印光刻(NIL)技术研究与产业化过程中取得的标志性进展,包括卷对卷R2R纳米压印技术、大面积微纳模具制版与有影响的产业应用。着重介绍了近年来在卷对平R2P套准纳米压印系统、低变形模具制备和智能套准工艺等研究进展和应用案例。报告预期,未来5年,将是高精度套准NIL关键技术和装备取得实质性突破的机遇期,有望在泛半导体与光子芯片、光场成像与显示、生物识别、具身传感、超表面与超材料等领域实现产业应用。
演讲嘉宾简介:苏州大学研究员,博士生导师,国务院特殊津贴专家。从事微纳光学与柔性制造、新型显示上游材料与器件、数字光刻与纳米压印技术研究与应用。曾主持国家863计划重大项目、国家重大科学仪器设备专项、国家自然科学基金重点项目等,在三维光刻技术与设备、卷对卷纳米压印技术与工艺、微纳光学材料与器件、新型显示技术等方面做出系统性和开拓性工作,研究成果在国内外广泛应用。作为主持人,先后获3项国家科技进步二等奖和5项江苏省科技奖一等奖,荣获全国“发明创业奖·人物奖”特等奖并被授予“当代发明家”称号和第四届“杰出工程师奖”。在Light, PRL, Adv.Mater., EES, and Optica发表论文190余篇,发明专利200余项(其中7项中国专利优秀奖)。苏州苏大维格科技集团创始人(创业板上市),现主持国家重点研发项目(首席)。

Michael Steigerwald
Raith集团CEO
演讲摘要:RAITH是无掩模纳米制造系统和表征解决方案的全球市场和技术领导者。我们将独特的高精度产品、集成解决方案和专有技术结合在一起,推动创新,服务于各行各业和各种应用。在题为“纳米印刷母版制作”的演讲中,我们将向观众介绍我们的公司,并展示我们在纳米压印过程中从设计到批量生产的解决方案,重点介绍电子束和激光束光刻技术、自动化二维计量和过程控制以及潜在的三维分析方法。
演讲嘉宾简介:Michael Steigerwald博士曾在纳米技术和先进科学系统领域担任过重要领导职务。他曾担任Raith集团的首席执行官,该集团是纳米制造和表征系统的全球领导者。Raith在半导体技术、量子技术和材料科学等关键行业的创新方面享有盛誉。 在加入Raith之前,Steigerwald博士曾担任多个管理职位,最近担任过美国KLA公司的高级工程总监,该公司是半导体生产中晶圆和掩模缺陷检测系统的领先制造商;在此之前,他曾在美国皮博迪的科学光学公司卡尔蔡司(Carl Zeiss)旗下的离子显微创新中心担任总经理,还曾在德国奥伯科亨的卡尔蔡司NTS公司担任高级研发经理。

程鑫
南方科技大学教授
演讲摘要:纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography, NIL)被广泛认为是下一代光刻技术的有力候选方案。经过30年的研发,纳米压印技术已具备商业化制造微纳尺度结构与器件的条件,这些结构与器件可应用于光学、生物工程和电子学领域。在南方科技大学(SUSTech),我们采用整体化策略推进纳米压印技术的发展。本次报告中,我们将介绍我们在纳米压印设备及抗蚀剂材料方面的研究工作,以及我们在缺陷抑制方面所做的努力。报告还将讨论纳米压印在光学与生物工程领域的应用。最后,通过分析纳米压印相较于传统电子束光刻和光学光刻技术的独特优势,尝试探讨纳米压印在电子制造领域的前景。
演讲嘉宾简介:程鑫于2005年获得美国密歇根大学电气工程博士学位。曾先后担任德州农工大学电气与计算机工程系助理教授、副教授。2013年起受聘为南方科技大学材料科学与工程系教授,并于2024年出任南方科技大学半导体学院(国家卓越工程师学院)执行院长。其研究与教学聚焦于半导体材料、器件及微纳加工技术,研究兴趣涵盖光刻、纳米制造、微流控芯片及MEMS传感器等领域。已在学术期刊发表论文140余篇,获授权专利50余项。此外,他还牵头主持了10余项重大科研项目,包括国家自然科学基金重大科研仪器研制项目、广东省重点研发计划项目等,同时还主持了10余项产业合作研发项目。

崔艳霞
华为技术有限公司技术专家
演讲摘要:纳米压印光刻(NIL)是半导体加工领域极具潜力的新兴工艺,既具备低成本、大面积图案制备的突出优势,又拥有实现亚 10nm 级高精度图形制造的潜力,为突破传统光刻技术瓶颈提供了切实可行的路径。目前,NIL 已在防伪标识、CMF 纹理装饰等成熟领域实现规模化应用;在新兴产业中,亦成功达成金属线栅偏振器、AR 光波导等关键元器件的量产。不过,在衍射光栅、微透镜、超表面等高精度光学结构的 NIL 量产化进程中,仍面临亟待突破的技术瓶颈。本报告将重点分享当前 NIL 技术进入半导体 FAB 产线、实现光学等功能器件跨界集成制造时面临的关键挑战。
演讲嘉宾简介:崔艳霞博士,华为技术有限公司 2012 先进制造实验室纳米制造与微器件方向技术专家。博士毕业于浙江大学光学工程专业,2011 年起任职太原理工大学,2013 年破格晋升教授,2019 年获批国家优青,2023 年加入华为。曾赴香港中文大学、香港浸会大学、美国伊利诺伊大学香槟分校开展访问研究。长期聚焦纳米结构局域光调控及光电传感器件应用,主持国家基金 5 项(含联合重点)、省部级项目 14 项,获山西省自然科学奖二等奖。发表 SCI 论文 157 篇(总他引 6190 次,ESI 高被引 4 篇),授权专利 30 项(国际 3 项),出版专著 1 部;入选爱思唯尔中国高被引学者,还获强国青年科学家提名奖、华为2012实验室创新先锋、华为中央研究院总裁团队奖等荣誉。

崔万银
纳糯三维科技(上海)有限公司总经理
演讲嘉宾简介:崔万银,毕业于德国卡尔斯鲁厄理工学院,荣获物理学博士学位。于2011年加入Nanoscribe,参与了全球第一台商业双光子3D微纳加工系统的研发,该系统获得全球光电科技领域最高奖荣誉 – Prism Awards(棱镜奖)。在德国任职期间,其开拓并深耕美国市场,与多家世界著名实验室及高效广泛合作,如橡树岭国家实验室、美国麻省理工大学、美国哈佛大学等。现任Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技(上海)有限公司总经理,负责公司产品整体规划、项目推进及长期战略发展定位。

邓萌萌
璞璘科技(杭州)有限公司总经理
演讲摘要:纳米压印技术是由华裔科学家Stephen Y. Chou在1995年发明的通用微纳加工技术。2019年,日本佳能宣布采用纳米压印技术实现NADA存储芯片的研发及生产,并于2023年向客户交付半导体工业级纳米压印机,实现了EUV光刻的替代方案。 今年8月1日,璞璘科技向下游特色工艺客户交付中国首台半导体级纳米压印机,型号:PL-SR。该设备在压印工艺指标上实现了<10nm分辨率,非真空贴合,喷墨材料及算法以及控制系统等纳米压印技术全闭环技术方案。相关指标对标日本佳能纳米压印技术。
演讲嘉宾简介:邓萌萌,璞璘科技创始人&CEO,高级工程师,硕士毕业于中国科学技术大学材料工程专业;深耕纳米压印技术行业15年;曾任职于中科院苏州纳米所,香港大学,三安光电,Nanodevice Solution Inc. 探真纳米等科研院所及头部企业。2017年与南京大学葛海雄教授创立璞璘科技(杭州)有限公司,专注纳米压印技术闭环产业化。

王亮
中国科技大学教授
演讲摘要:在芯片技术的发展过程中,器件的特征尺寸越来越小,为了达到纳米精度要求,光刻技术成为关键。投射光刻技术是目前光刻工艺的主流。随着加工器件的日益精细和尺度不断缩小,这种传统光刻技术也变得越发复杂,而这也导致了器件的光刻成本不断增加。最新的ASML EUV光刻机售价已经达到一亿美元。因此,许多研究机构都在努力寻找可替代的低成本光刻技术。本报告将着重介绍期中的等离子直写技术和纳米压印技术。
演讲嘉宾简介:王亮博士研究方向为纳米光学和半导体光电器件。近年有80多篇学术论文发表在国际刊物上。申请和获得国际专利30余项,主持国家自然基金重点项目和面上项目,主持科技部重点研发计划,参与国家自然科学基金重大项目。应邀为多个国际权威杂志的特约审稿人包括Physics Review Letters, Optics letters, Nanotechnology, Optics Express等。 王亮博士熟悉纳米工艺开发和大规模生产,有在国际大公司的研发和生产部门8年以上的工作经验。亲自参与了芯片整体流程开发,质量控制/检测,以及对芯片整体架构的设计。王亮博士具有丰富的公司管理和将研究成果产业化的经验。他提出的多项技术已经取得国际专利授权,并已经被多家顶级科技公司采用,如希捷,西部数据,佳能和东芝等。

吴争鸣
海德堡高级销售工程师
演讲摘要:在本次演讲中,我们将介绍海德堡仪器公司(Heidelberg Instruments)的 NanoFrazor 热扫描探针光刻技术在创建纳米压印光刻(NIL)母版模板方面的独特优势。 NanoFrazor 光刻系统是作为电子束光刻(EBL)等标准无掩模纳米光刻方法的第一 个真正替代品或扩展而开发的。该系统采用一个可加热的超锐探针尖端,其尖端仅 有几纳米,可用于图案化并同时检测复杂的纳米结构。通过一种集成的原位计量方 法,每个单独像素的图案化深度可控精度优于 1 纳米。我们将展示其在灰度图案化 方面的单纳米精度,并重点介绍其在全息图、光栅和超透镜等先进光子器件中的应 用。 此外,我们将探讨在含氟聚合物上直接书写的最新进展,展示如何利用含氟聚合物 材料制作二维和灰度模板印章。这种方法解决了纳米压印光刻(NIL)中的一个关键 挑战——印章上的粘附和高阻抗粘附——这些问题会降低图案质量并减少产量。 展望未来,我们将推出搭载十倍速模块的下一代 NanoFrazor,其写入速度将提升 10 倍,覆盖面积也将更大,从而为更大尺寸的纳米压印光刻(NIL)模板实现纳米级精 确图案化。
演讲嘉宾简介:在巴塞尔大学获得物理学硕士学位之前,吴争鸣(音译)曾在航空部研究所担任应用和 销售工程师多年。在巴塞尔大学攻读博士学位期间,她在 Schönenberger.教授的团队中, 利用紫外光和电子束光刻技术制造纳米器件。之后,她加入了两个生产纳米技术研究所 需高科技设备的初创公司。在海德堡仪器纳米公司,她成功建立并发展了全球销售网络。 吴正明经常出现在众多国际会议、研讨会和讲习班上,讲解 NanoFrazor 技术并讨论其应 用。

葛海雄
南京大学现代工程与应用科学学院材料系教授
演讲摘要:纳米压印技术作为一种颠覆性的微纳图形化解决方案,在替代传统光刻以实现更低成本与更高分辨率的芯片制造方面展现出巨大潜力。近年随着微纳光学领域的发展,纳米压印在光波导、微透镜、超表面等方面发挥着越来越重要的作用。 本团队开发的复合模板技术解决了高深宽比结构复制中的模板寿命与脱模难题;创新的喷墨步进式纳米压印技术集成了原位喷墨与精准对位,实现了任意图形的可编程与大面积制造;在曲面压印等特殊工艺上的探索,则将纳米压印技术的应用边界拓展至曲面光学与柔性电子领域。
演讲嘉宾简介:葛海雄,南京大学现代工程与应用科学学院教授,璞璘科技(杭州)有限公司联合创始人。纳米压印光刻领域的资深专家,深耕该领域超过20年。于1999年获得南京大学高分子化学与物理博士学位,之后先后于上海有机化学研究所及美国普林斯顿大学从事博士后研究。自2004年起在南京大学任职,致力于纳米压印技术的基础研究与应用开发。 2017年创立璞璘科技(杭州)有限公司,成功将实验室的尖端科研成果转化为成熟的产业化解决方案,推动了纳米压印技术在中国从研发到商业化应用的闭环形成。团队在《Nano Letters》、《Advanced Materials》等顶级期刊上发表多篇具有影响力的论文。

居法银
江苏优众微纳半导体科技有限公司副总经理
演讲摘要:江苏优众微纳半导体科技有限公司是一家专注于半导体微纳器件一站式解决方案的高新技术企业。公司依托自主研发的纳米压印光刻(NIL)核心技术与成熟稳定的半导体制造工艺,提供完整的NIL工艺集成方案,包括12台适用于研发与量产的压印设备、自主研发的关键材料(如接触角>110°的防粘材料、刻蚀选择比达3:1的高耐刻NIL光刻胶),以及与黄光系统、刻蚀机、涂布设备、测试仪器等配套设备的无缝工艺整合。公司主打产品包括衍射光学元件(DOE)、超构透镜、微透镜阵列、高通量基因测序芯片及微流控器件,广泛应用于3D传感、AR/VR、生物检测、光通信及低照度夜视等领域。
演讲嘉宾简介:居法银,男,出生在1985年 1.教育经历 2004-2008:本科就读于南京工程学院 2008-2010:硕士就读于南京理工大学 2.工作经历 2014-2016:在南京鹏派新材料科技有限公司任职技术总监 2016-2019:在苏州迅鼎光电科技有限公司任职副总经理 2019-2024:在浙江优众新材料科技有限公司任职工艺总监 2024-至今:在江苏优众微纳半导体科技有限公司任职副总经理 3.其他 知识产权:发明专利40项,实用新型专利10项

彭博方
上海芯澈科技有限公司总经理
演讲嘉宾简介:彭博方博士拥有光学工程博士学位。他曾任职于上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)与阿斯麦公司(ASML),从事深紫外光刻对准系统及套刻测量技术的研发工作。在复旦大学任职期间,他致力于喷射式闪光纳米压印光刻技术的研究,重点攻关纳米压印光刻对准系统相关课题。

Andrea Kronawitter
EV集团商业发展经理
演讲摘要:近年来,晶圆级纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography,简称NIL)取得了重大进展,已从一种专门的研发技术转变为成熟的大批量制造方法。这种高分辨率图案化技术能够在大面积表面上,以极高的保真度复制复杂的微结构和纳米结构。 纳米压印光刻在实现下一代增强现实与虚拟现实(AR/VR)设备方面发挥了关键作用,为汽车和传感器应用的性能提升做出了贡献,同时也推动了生物医学微器件的创新。此外,纳米压印光刻已成为实现超构透镜(metalenses)可规模化制造的核心支撑技术。由于其能够制造复杂几何结构,且在形状和尺寸方面几乎不受限制,纳米压印光刻正日益被视为高量产制造商的首选方案。光子学领域的许多创新器件都依赖此类先进的制造技术来确保完美的图形保真度,而纳米压印光刻恰好满足了这些要求。此外,NIL是一个开放的材料平台,既能够处理用于永久性压印的高折射率材料,也能处理用于牺牲层的蚀刻优化材料。而且,该技术不受基材尺寸和形状的限制。本报告将讨论针对各种应用的永久压印和牺牲层压印方面的最新成果。
演讲嘉宾简介:Andrea Kronawitter(音译:安德里亚・克朗纳维特)现任 EV 集团(EV Group)业务开发经理,主要负责微米压印光刻与纳米压印光刻技术在多个领域的应用,尤其专注于纳米光子学与晶圆级光学领域。 Andrea 拥有德根多夫应用技术大学(Deggendorf Institute of Technology)与布达佩斯技术与经济大学(Budapest University of Technology and Economics)联合授予的技术与创新管理专业工程硕士学位(M.Eng)。她在电气工程及产品管理方面拥有多年专业经验,尤其擅长材料、光学与光子学方向。

陈云
DELO 公司中国东部区域销售经理
演讲摘要:本次为大家介绍德路高可靠性微纳光学压印材料,该材料是微纳光学领域关键基材,可广泛应用于光波导、DOE(衍射光学元件)、MLA(微透镜阵列)及摄像头模组小型化生产,精准匹配高端光学器件的制造需求。 其核心优势突出:一是具备优异的高可靠性,能长期稳定保持光学性能与结构完整性;二是拥有出色的高抗黄变性能,有效规避长期使用中因材料老化导致的光学效果衰减问题。 针对材料性能,德路已积累大量详实实验数据,从稳定性测试到抗老化验证均有充分支撑,为客户在光学器件研发与量产环节提供可靠的材料保障。
演讲嘉宾简介:陈云现任德路华东区技术销售经理,深耕光学微纳压印领域多年,拥有深刻的行业洞见。他深谙纳米压印核心工艺与材料特性,精准把握 AR 光学、MLA等关键应用场景的技术痛点与量产需求,对行业追求高精度、低成本的发展趋势有着敏锐判断,能为客户提供贴合产业落地的专业解决方案。
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