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Conference Introduction

会议简介

自1995年纳米压印技术发明以来，历经三十余年技术迭代与产业深耕，该技术凭借高分辨率、低成本、高产能的核心优势，迅速成为学术界和产业界关注的焦点，被视为微纳制造领域的重要里程碑。据TechNavio预测，2026年底全球纳米压印市场规模预计达到33亿美元，展现出强劲的增长潜力。这一技术因其在分辨率、成本和三维成型方面的独特优势，被视为突破传统光刻物理极限的关键路径之一，尤其在存储芯片、AR/VR光波导和先进封装等特色工艺领域，已展现出不可替代的价值。

2026年第四届NTAC纳米压印技术与应用大会将以“聚焦产业链生态，加速技术产业化”为核心，整体定位紧扣产业赋能。大会旨在深化纳米压印技术从研发端到应用端的全链条衔接，加速规模化落地进程。同时持续强化NTAC会议学术交流与产业协作的纽带作用。

本次会议将深度覆盖全产业链：上游聚焦关键材料、模板及核心零部件的国产化攻坚；中游着力于量产设备、工艺优化与代工服务能力的升级；下游则重点探讨多领域应用场景的技术适配与规模化落地，切实推动技术与产业的深度融合。此外，大会将重点拓展半导体、AR/VR光学、生物医疗等核心赛道，助推纳米压印技术在民生与高端制造领域实现突破，为相关产业的提质增效与转型升级注入新动能。

Conference Organizers

会议组织

主办单位

    • 姑苏实验室

承办单位

    • 苏州新维度微纳科技有限公司
    • 苏州纳米科技发展有限公司

联合承办单位

    • 普雨科技（苏州）有限公司
    • 上海澈芯科技有限公司

支持单位

    • 中国光学光电子行业协会光学元件和光学仪器分会

Main Topics

主要议题

2026 Agenda Overview

2026年议程总览

时间： 10月21日 下午
地点： 苏州国际博览中心A馆A109会议室
主持人：陈宜方
时间： 10月22日 上午
地点： 苏州国际博览中心A馆A109会议室
主持人: 拉尔斯・蒙特留斯
时间： 10月22日 下午
地点： 苏州国际博览中心A馆A109会议室
Moderator: Gang Luo

许文清
（ 姑苏实验室常务副主任）

罗刚
（ 苏州新维度微纳科技有限公司总经理）
在高精度微纳制造领域，传统光刻存在设备投入巨大、工艺成本高企、量产技术门槛严苛等痛点。纳米压印作为高性能替代技术路线，能够适配多类高精度微纳器件的开发需求，具备低成本、大批量规模化生产的显著产业优势。结合一线产业实践观察，行业普遍面临一大现实矛盾：实验室阶段工艺指标亮眼，但向工业化量产转化时仍存在大量工程化难题。 针对上述行业痛点，公司构建国产化纳米压印全生态制造平台，能力覆盖模板制备、工艺开发、新品研发、产线建设至批量量产全流程，可承接微纳器件的研发迭代、试样验证与规模化落地，打通从技术研发到商业量产的核心壁垒。业务覆盖 AI 光通信、激光器、AR/VR、生物医疗、显示、先进封装等重点赛道，凭借一站式高精度制程服务，解决行业技术落地困难、量产成本居高不下、新品迭代转化慢等行业共性问题。 将在 2026 深圳光博会带来《从模板到量产：打造全生态链的纳米压印制造平台》主题报告，立足产业实践与市场需求双重视角，探讨依托纳米压印技术实现降本增效、从模板开发到批量量产的商业化实现路径。
罗刚，瑞典隆德大学物理学博士，北京大学化学系博士，师从纳米压印技术欧洲奠基人Lars Montelius教授及国内刘忠范、张锦院士。现任苏州新维度微纳科技有限公司创始人兼总经理，材料科学姑苏实验室技术组负责人。曾任瑞典Obducat Technologies AB纳米压印技术专家，主持多项欧盟框架计划项目，主导研发首台量产型纳米压印机，推动公司战略转型。长期深耕纳米压印技术领域，2022年创办新维度微纳，推动纳米压印技术及微纳元器件产业化。建成涵盖20纳米级特征的晶圆级纳米压印Fab平台，掌握多材料体系加工工艺。入选国家“火炬计划”，获国家高层次人才、姑苏创业领军人才、“苏州工业园区科技领军人才”等。发表学术论文10余篇，持有发明专利8项。

陈林森
（ 苏州大学教授，苏州苏大维格科技集团股份有限公司董事长）
陈林森（苏州大学、苏州苏大维格科技集团 教授） 个人简介：苏州大学研究员，博士生导师，国务院特殊津贴专家。从事微纳光学与柔性制造、新型显示上游材料与器件、数字光刻与纳米压印技术研究与应用。曾主持国家863计划重大项目、国家重大科学仪器设备专项、国家自然科学基金重点项目等，在三维光刻技术与设备、卷对卷纳米压印技术与工艺、微纳光学材料与器件、新型显示技术等方面做出系统性和开拓性工作，研究成果在国内外广泛应用。作为主持人，先后获3项国家科技进步二等奖和5项江苏省科技奖一等奖，荣获全国“发明创业奖·人物奖”特等奖并被授予“当代发明家”称号和第四届“杰出工程师奖”。在Light, PRL, Adv.Mater., EES, and Optica发表论文190余篇，发明专利200余项（其中7项中国专利优秀奖）。苏州苏大维格科技集团创始人（创业板上市），现主持国家重点研发项目（首席）。

陈宜方
（ 复旦大学教授）
纳米压印光刻（NIL）与电子束光刻（EBL）目前仍是制备纳米结构、纳米器件与纳米系统最主流的技术，支撑着从基础研究走向产业化的进程。本次报告中，我将首先简要回顾国内纳米压印光刻的基础研发进展；接着介绍利用自研电子束曝光设备取得的一系列振奋人心的电子束光刻成果；最后汇报课题组近年来在 X 射线显微用波带片纳米加工方面取得的最新研究成果，该成果使我们跻身国际先进水平。
陈宜方教授，1995 年获牛津大学凝聚态物理博士学位。先后任职于代尔夫特理工大学、南洋理工大学、格拉斯哥大学；2003–2012 年在卢瑟福阿普尔顿实验室历任高级科学家、首席科学家，兼任洛桑联邦理工访问教授、英国国家物理实验室访问资深科学家。2012 年依托国家高端人才计划入职复旦大学，2018 年获国务院特殊津贴。自1990 年起长期从事纳米加工及其应用研究，方向涵盖电子束光刻、纳米压印、干法刻蚀等。其团队基于电子束光刻建成可制备 10 nm 分辨率、高效率 X 射线显微元件的完整纳米加工平台，支撑国家同步辐射装置与实验室型 X 射线纳米 CT。发表论文 170 篇，拥有 10 项 X 射线光学专利，担任 Elsevier 旗下《Microelectronic Engineering》与《Micro Nano Engineering》副主编。

陈勇
（ 法国高等师范学院教授）
从我们早期在纳米压印领域的研究成果，到近期面向生物医学应用的相关工作，微纳尺度制造始终是本团队贯穿始终的研究主题。本次邀请报告将梳理这一发展脉络，阐述制备工艺的演进，以及塑造我们研究方向的科学问题与应用需求之间的内在联系。报告将首先简要介绍团队在该领域的早期成果，重点阐释这些技术发展背后的研究动机与物理原理。随后将重点介绍纳米压印成型及相关工艺的最新研究，尤其聚焦生物医学应用。将选取典型案例说明材料形变、界面相互作用和力学约束如何调控微纳结构的成型与集成。借助这些案例，探讨制备策略、结构特性与生物功能之间的关联。报告最后展望未来面临的挑战与机遇，探索物理认知、人工智能以及生物医学问题如何共同指引微纳制造技术的发展。
陈勇，法国国家科学研究中心（CNRS）暨巴黎高等师范学院（ENS）荣誉研究主任。他曾担任巴黎高等师范学院教授、京都大学兼职教授、北京大学讲座教授、香港理工大学杰出讲座教授。在凝聚态物理与纳米技术多个领域深耕二十余年后，他目前主要面向学术与产业需求，开展体外模型及器官芯片系统相关研究。

冯继成
（ 上海科技大学教授）
我们正站在集成电路发展的一个关键十字路口。当传统光刻技术在物理极限与天文数字般的成本面前步履蹒跚时，我们是否只能沿着这条“自上而下”的老路内卷？本报告将介绍一项有望打破僵局的变革性技术——法拉第3D打印。这是一种截然不同的制造范式：我们摒弃复杂的光学系统和真空环境，转而利用精确控制的电场作为“画笔”，在常压下直接“描绘” 出三维纳米结构。这是一种自下而上的原子级组装，它让我们能够自由地使用金属、半导体甚至高熵合金等多种材料，在晶圆上直接打印出高性能互联、晶体管乃至整个三维系统。我们的研究已经证明，这条新路径并非遥不可及：我们实现了10纳米以下的极致线宽、一小时内的晶圆级快速制造，并成功打印出关键器件。这不仅仅是制造方法的简单替换，它更为我们打开了通往原子级制造、多功能异构集成的大门。本报告将深入探讨这项技术的核心原理、令人振奋的突破性应用，并展望它如何作为后摩尔时代的中国方案，为下一代芯片制造注入全新的活力与无限的可能。
冯继成入选国家级高层次青年人才计划及上海市海外高层次引进人才，现任上海科技大学研究员、博士生导师、AIL课题组长。担任国际期刊Aerosol Research编委。其研究方向聚焦于微纳与原子级制造系统及装备研制，作为第一发明人已申请25件发明专利（含4件PCT）。主持多项国家级和省部级项目；相关成果发表于Nature、Matter、Advanced Materials等国际知名期刊，多篇被选为封面文章，并获Nature Electronics、Nature Communications、Matter 等等权威期刊专文亮点评述。

王众望
（ 苏州国家实验室研究员）
光学超材料凭借亚波长结构对光场相位、振幅和偏振的精确调控能力，已成为下一代平面光学系统的核心赋能技术。然而，随着超材料向集成化、多功能化、商业化发展，其加工技术与工艺面临的挑战日趋增多。报告基于超材料、超表面结构特点与发展趋势，梳理了其制备技术所面临的挑战，并分析了加工技术路径与产业化前景。
博士毕业于北陆先端科学技术大学院大学（JAIST），于日本理化学研究所（RIKEN）联合培养一年，2020至2022于中南大学进行博士后研究，博士后出站后加入Raith负责电子束光刻技术应用支持与培训。现就职于苏州国家实验室，任副研究员。以第一作者于Advanced Materials, ACS Nano，Applied Physics Letters等期刊发表科研论文10余篇，获得湖南省青年基金、湖南省优秀博士后创新人才两项省部级项目资助。

齐鹏
（ 上海科技大学副研究员）
微纳制造平台集成了多种设备与复杂工艺，但知识分散、数据割裂及对人工协调的高度依赖，使平台能力难以高效整合与持续积累。本报告介绍 AgenticLitho 的整体构想与建设成果：以 AI 智能体连接领域知识、设备能力、工艺流程与实验数据，推动整个微纳制造平台向智能体驱动的自动化体系演进。其目标是让大科学装置的光学制造需求直达制造平台，由智能体协同完成需求解析、工艺规划、工具调用、执行协调与结果分析，并将实验反馈转化为可追溯、可复用的工艺知识。报告将讨论实现这一愿景所需的平台架构、设备接口与人机协作机制，探索在人员监督与关键节点审核下，逐步建立从制造意图到实验执行、再到知识更新的闭环，使平台具备持续积累经验、优化流程和协同完成复杂制造任务的能力，最终实现智能制造与科研需求的贯通。
齐鹏，上海科技大学大科学中心副研究员、材料器件中心学术导师，入选上海市海外高层次人才，主持上海市浦江人才计划及上海科技大学 AI 创新计划项目。于加拿大光源获博士学位，曾在美国阿贡国家实验室和瑞士保罗谢尔研究所开展博士后研究。长期从事 X 射线光学、显微成像与微纳制造研究，贯通光学设计、器件制造与系统应用，首创片上集成消色差 X 射线透镜、X 射线衍射轴锥镜等新型光学器件。研究成果发表于 Light: Science & Applications、Optica 等期刊，相关工作入选瑞士纳米科学研究所2023年度研究亮点。近年来致力于 AI 智能体与微纳制造的深度融合，推动微纳制造平台的智能化与自动化转型。

拉尔斯・蒙特留斯
（ 伊比利亚国际纳米技术实验室前总干事、隆德大学名誉教授）
半导体几乎为所有现代技术提供动力 —— 从智能手机和人工智能数据中心，到电动汽车（EV）、工业自动化乃至医疗设备。随着越来越多的行业走向数字化和自动化，对先进芯片的需求持续增长。 AI 浪潮：训练和运行 AI大模型（如 ChatGPT）需要巨大的算力，由 GPU 和 AI 专用芯片驱动。 电动汽车与出行转型：电动和自动驾驶汽车所需的芯片远多于传统汽车 —— 涵盖传感器、电源管理、信息娱乐系统等。 物联网增长：数十亿台设备（智能家居、工厂等）正接入互联网，均需要半导体支撑。 地缘政治紧张局势暴露了全球芯片供应链的脆弱性。今天，我们看到各国对关键产品本土制造能力的兴趣日益浓厚。此外，全球政治不稳定性也在上升。半导体如今被视为战略性资产—— 其重要性堪比 20 世纪的石油。 因此，我们近来观察到全球地缘政治格局正快速变化。而更为宏大、也关乎地球家园永续繁荣的必要前提是，实现绿色转型，从而走向可持续社会。 这些重大的社会性发展对整个社会提出挑战，进而也对现行的高等教育体系与工业社会带来挑战。为了加速把发明转化为所需的前瞻性颠覆性创新，需要跨学科、跨领域的协同行动。 纳米技术是一项关键使能技术，有望为解决当今重大社会挑战做出切实贡献，提供应对方案的可能性 —— 例如按需供应可持续能源、让每个人都能获得清洁用水、开创电子护理与电子健康的新范式等。尤其是纳米压印光刻（NIL）技术，对于打造更绿色的半导体制造产业而言，可能具有至关重要的意义。 因此，当前我们迫切需要 —— 最终也将转化为机遇 —— 寻求全新的解决方案与激励机制，以吸纳所需的跨学科人才参与，并加强与工业界乃至整个社会之间的紧密协作。简言之，我们需要凝聚各方力量，共同开创一条立足全球的系统且包容的 "科学 — 技术 — 社会 — 创新" 之路，为人类、地球与繁荣。
Portugal. 瑞典隆德大学理学院物理系 隆德纳米科学中心 —— 集纳米科学研究、教育与创新于一体的中心。 前国际伊比利亚纳米技术实验室（INL，总部位于葡萄牙布拉加）总干事。

罗锋
（ 合肥工业大学仪器科学与光电工程学院院长）
单晶金刚石具有高杨氏模量与优异光学性能，并且可承载氮——空位（NV）中心等固态自旋缺陷，是制备扫描探针与量子器件的重要材料。但单晶金刚石硬度高、化学稳定性好，也给其微纳加工带来巨大挑战。这类要求带来两大难题：一是在多尺度范围内调控材料去除，同时实现高精度图形转移；二是在超薄悬臂制备过程中，兼顾加工效率、厚度精度与结构稳定性。本报告通过工艺开发、结构制备以及多级单晶金刚石微纳结构与超薄扫描探针的性能评测，应对上述难题。研究开发了多级硬掩模图形转移工艺，以及激光——聚焦离子束（FIB）复合加工工艺。
罗锋教授，合肥工业大学仪器科学与光电工程学院院长，毕业于北京大学，主要研究方向涵盖极紫外光刻（EUV）、微纳加工、半导体先进制造工艺及器件可靠性等领域。

徐壮壮
（ 苏州新维度微纳科技有限公司市场总监）

周宓
（ 宁波天璇新材料科技有限公司总经理）
微纳光学材料正经历从传统“被动利用”向人工“主动设计”的范式跨越，其核心发展脉络围绕新型功能材料体系、颠覆性制造工艺以及从微透镜到光波导的器件集成化三大主线展开。天璇新材料产品服务于微纳/衍射光波导企业电子显示屏制造商等下游企业。公司在AR衍射光波导、3D传感微透镜阵列等领域实现广泛应用。本次报告将结合天璇新材料的发展历程，深入探讨微纳光学材料从微透镜到光波导的技术演进路径，分享公司在从材料性能不断提高，稳定性增强，和放大量产性上的技术突破。
周宓，宁波天璇新材料科技有限公司总经理, 国家海外高层次人才。2010年博士于新加坡国立大学，其后长期在国际化工巨头巴斯夫公司工作，担任高级研发科学家及高级管理职务。为实现高性能光学材料创新的梦想，周宓博士领衔团队创办了宁波天璇新材料科技有限公司，专注于高性能界面光学材料的开发和市场化。周宓博士多年来持续深耕光电材料，共发表/授权专利70余篇，在有机半导体，高性能光学材料等领域做到了多个世界一流，取得客户的高度认可和好评。

崔万银
（ 纳糯三维科技（上海）有限公司总经理）
本报告重点介绍 Nanoscribe 核心的双光子聚合(2PP)与双光子灰度光刻(2GL)技术。该技术支持逾4000阶灰度动态调控，突破传统2D光刻瓶颈，可在光纤端面及光子芯片上以纳米级精度（粗糙度Ra≤5nm）进行三维对准打印。报告将展示其如何免除复杂对准成本，实现从快速原型设计、纳米压印高精度母版制作到晶圆级规模化量产的完整解决方案。
崔万银，德国卡尔斯鲁厄理工学院物理学博士，深耕微纳加工产学研超15年。曾于德国总部深度参与全球首台商业双光子3D微纳加工系统及核心2PP技术早期研发，突破传统半导体限制，实现百纳米级精度的真三维微纳制造，并荣获SPIE棱镜奖。现任Nanoscribe中国区总经理，主导该顶尖技术在微纳光学、光通信等领域的工业级量产验证。

胡品
（ 魔飞光电（苏州）有限公司总经理）

Patrik Lundström
（ Obducat 公司CEO）
Obducat 的纳米压印光刻（NIL）技术所蕴含的能力，支撑着人工智能、国防与医疗健康等众多领域的应用。以工业级规模再现微米级乃至纳米级结构的能力，正以日益加快的速度推动各行业的变革。传统半导体技术与光子学的融合，将驱动整个行业发生根本性的转变。Obducat的纳米压印光刻技术成功地将工业化生产与高良率、高图形精度、可重复性及成本效益融为一体。随着市场对微米及纳米级结构制备能力的需求持续增长，Obducat 致力于进一步拓展其在 NIL 技术领域的各项能力，以支持持续发展的产业化进程。
Patrik Lundström （音译：帕特里克・伦德斯特伦）现任 Obducat 集团首席执行官。他拥有隆德大学工商管理硕士学位。在电子与半导体行业拥有逾 25 年从业经验，专注于管理、销售、研发及制造等领域。他于 2000 年加入 Obducat，并于 2002 年被任命为首席执行官。在加入 Obducat 之前，他曾任职于RFID（射频识别）行业的龙头企业 Meget AB（现为 Assa Abloy 集团旗下公司）。在其职业生涯早期，Patrik 曾从事电子制造行业并负责过一个光刻部门。

朱国
（ 锐时科技有限公司副总经理）
全球无掩模纳米加工龙头德国Raith公司，1980 年创立，年营收逾 2 亿欧元，全球装机超 1300 台、用户逾 1.5 万。核心技术为电子束光刻 EBL（分辨率 5nm）与激光束光刻 LBL（200nm），以及离子束等设备。EBL 以 EBPG ，Voyager系列为核心，配合FIREBIRD 多核加速及 Nanosuite 软件（支持圆形与算法化图形生成），用于超表面、纳米透镜、光栅、波导等光子器件。激光系统如高分辨率 PICOMASTER、全息制版 ATHOS 及 HoloSuite 软件库，面向微透镜阵列、微流控、衍射光学与防伪全息。公司在德国设总部与荷兰多座工厂，并于 EMEA、美洲及中国上海设有体验中心。欢迎大家垂询和交流。
朱国先生在德国Raith中国公司担任副总经理，负责公司产品的市场拓展和销售管理工作。朱国先生对电子束曝光和测量，聚焦离子束，激光直写，纳米压印等产品和技术拥有10多年的丰富经验。特别是对相关技术在科研和产业界的应用有深刻认识，有力推动了微纳加工和检测技术在中国的微电子，光电子，光通信，AR/VR等领域的应用。

邓萌萌
（ 南京大学，璞璘科技（杭州）有限公司总经理）
纳米压印已逐步进入先进制程半导体，成为微纳制造的重要路径。随着国内光通讯与光模块产业爆发，高精度、低成本、高产能的光学制造需求激增，纳米压印在光芯片、光模块、光波导、光子芯片等领域展现出广阔应用场景。璞璘科技将分享技术进展、产业化实践与未来布局，探讨纳米压印如何赋能半导体与光电子融合创新。
邓萌萌，璞璘科技创始人&CEO，南京大学在读博士，高级工程师；深耕纳米压印技术行业15年；曾任职于中科院苏州纳米所，香港大学，三安光电，Nanodevice Solution Inc. 探真纳米等科研院所及头部企业。2017年与南京大学葛海雄教授创立璞璘科技（杭州）有限公司，专注纳米压印技术闭环产业化。

李凡月
（ 拾斛科技（南京）有限公司董事长）
人工智能的爆发对微光学提出了巨大需求，涉及从纳米、微米到毫米尺度的各类结构。应用场景涵盖存算一体光芯片中的耦合光栅、波导光学、超透镜，自由空间的光纤/波导耦合，以及AI终端产品的芯片化成像透镜。然而，这些需求对微纳加工提出了更高要求：高精度转印（相对误差≤1%）、高良率（达到半导体级）、兼容封装（支持W2W与C2W）以及低成本（包括设备投资与制造成本）。拾斛科技首创的厚胶压印与常压键合技术，完美突破了上述瓶颈。基于这一技术优势，还成功解决了微纳光学元件的温度敏感难题。
李凡月先生，拾斛科技董事长。他引领团队深耕晶圆级光学领域，专注于核心元件的设计、制造与应用。其核心团队汇集了来自半导体工厂、光学器件制造及纳米压印等前沿领域的资深专家，技术底蕴深厚，产业化经验丰富。在他的带领下，拾斛科技正以技术创新为驱动，快速成长为推动行业发展的全新力量。

涂书学
（ EVG区域销售经理）

居法银
（ 江苏优众微纳半导体科技有限公司副总经理）
纳米压印光刻（NIL）是一种利用模板将微纳结构图案转移至衬底的高分辨率、低成本微纳加工技术，可有效突破传统光刻的衍射极限与EUV的高成本瓶颈。江苏优众微纳半导体科技有限公司依托自主核心NIL技术，提供涵盖设备、材料、工艺的一站式解决方案。公司具备8英寸晶圆加工能力，压印精度<10nm，深宽比>5:1，并拥有自主研发的抗粘材料、高抗刻蚀压印胶及高杨氏模量软模胶。产品已应用于光学衍射DOE、超透镜、生物芯片、反射型金属线栅等领域。面对缺陷控制、套刻精度、模板寿命等挑战，NIL正聚焦光子芯片、3D NAND存储、先进封装等“侧翼战场”，未来十年有望从新兴替代技术迈向主流成熟工艺。优众微纳作为国家专精特新小巨人企业，拥有150+员工、50+知识产权，致力于为关联者创造价值。
居法银，现任江苏优众微纳半导体科技有限公司研发副总经理。长期从事半导体及微纳制造工艺研发与产业化，具备材料、半导体工艺及规模化制造背景。目前负责公司产品研发、工艺开发及先进技术创新，主要方向包括半导体制造工艺、微纳结构加工、纳米压印技术、光刻/刻蚀/薄膜等关键工艺，以及微纳光学器件和生物芯片的研发与产业化。拥有授权专利27项（其中发明专利23项），参与3篇团体标准起草

曹振庭
（ 矽万（上海）半导体科技有限公司销售总监）
纳米压印技术凭借突破光学衍射极限、分辨率高、成本低的突出优势，已成为微纳光学、柔性电子、生物芯片等领域图形化制备的核心技术。相较于EBL、传统光刻等制版方式，激光直写光刻凭借无掩模、高灵活度、跨尺度加工的独特优势，现已成为当前压印模板最核心、最高效的主流加工方法。 本次演讲重点阐述激光直写光刻工艺在模板制备中的解决方案和工艺优势。基于Raith Laser的大幅面激光直写设备和矽万的Simxat Studio数据库软件,总结直写光刻设备的加工能力以及相关数据的设计和工艺优化等方案
曹振庭，矽万（上海）半导体科技有限公司，销售总监，2010年开始从事激光直写设备和微纳加工工艺相关工作，主要工作内容为激光直写光刻设备、微纳图形制备与功能微结构器件开发和应用。长期研究各类微纳加工设备与工艺，在微纳光学、精密模具加工，数据处理等方面积累了丰富的实践经验。
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