个人简介：06年北京大学化学博士学位，09年瑞典隆德大学物理博士学位。国内最早从事纳米压印技术研究的科研工作者之一，01年在北大研究生期间即开始了对该技术的科学研究，其后留学瑞典进一步深造纳米压印技术，并开始参与工业化项目的研发。毕业后以纳米压印专家的身份加盟Obducat公司，先后担任SMASH、ANIP等欧盟项目的技术负责人，以及LED衬底PSS（蓝宝石图案化衬底）、面板级铝线栅WGP、AR/VR光学元器件等多个产业化项目的技术负责人。

       个人简介：Lars Montelius教授自2014年9月1日起担任葡萄牙布拉加地区伊比利亚国际纳米技术实验室总监。他是瑞典隆德大学纳米科技方面的教授。2003-2009年期间担任隆德大学科学与工程学院物理系主任。2009-2011年担任Øresund大学及Øresund科学区总监，该组织是Øresund地区11所大学、3个地区政府及2个国家的跨境合作机构。Lars Montelius教授在2007-2012年期间担任瑞典纳米科技标准化技术委员会主席。他是瑞典多家纳米科技公司的创始人。曾担任国际真空科学技术与应用联盟主席，同时还是欧盟NMBP(纳米科技，先进材料，生物技术及先进制造处理)专家组决策层成员以及欧洲两大科技平台NANOFutures和EuMat的董事会成员及工作组负责人。Lars Montelius教授在纳米科技领域从业30年，工作围绕应用于多种纳米设备的光刻及处理技术。特别是在纳米压印及光刻方面，他和他的团队发表了多篇有影响力的论文。Lars Montelius教授已发表论文超过170篇，受邀发表演讲80多次，并且已经申请了54个专利。

       个人简介：陈宜方教授于1995年获得英国牛津大学凝聚态物理系博士学位。曾经在荷兰代尔夫特理工大学(1994-1996)、新加坡南洋理工大学(1996)和英国格拉斯哥大学(1997-2002)从事博士后研究工作。2003年至2012年他受聘于英国卢瑟福阿普尔顿实验室的高级科学家并被晋升为纳米科技首席科学家；他是瑞士洛桑理工大学访问教授（2010）和英国国家物理实验室高级访问研究员(2016-2019)。2012年他作为国家海外高端引进人才加盟复旦大学并于2018年获得国务院政府特殊津贴。陈宜方博士自1990年起，长期从事纳米加工与应用的基础研究，运用电子束光刻/纳米压印/干刻蚀等工艺手段服务于新型纳米光电器件与芯片、InP基高电子晶体管、X射线关键光学部件研制、基于超表面材料的偏振器和涡旋光调控器件、二维纳米光子晶体等方面的基础研究。尤其是在X射线纳米显微镜的关键光学部件研制中，他领导的团队填补了国家空白，并成功研发了15纳米分辨率的新型X射线透镜，达到了国际先进水平。发表了150余篇SCI论文，获得10项国家专利授权。他是Elsevier的微电子工程期刊副主编、欧洲研究院（ERC）远程评审专家等。

Helmut Schift博士曾就读于德国卡尔斯鲁厄大学专攻电子工程学，后在德国美因茨微技术研究所（IMM）攻读博士学位。其专业领域包括微光学、高纵横比光刻和聚合物复制（LiGA 技术）。1994年毕业后，他加入保罗-舍勒研究所（Paul Scherrer Institute）担任研究人员，并在那里建立了纳米压印光刻（NIL）技术平台。作为先驱者之一，H. Schift博士开发了采用拓扑和化学表面对比的功能表面图案化使能技术，并成功将这些工艺用于不同的研究和应用领域。自 2001 年起，他在北威州应用科学与艺术大学（Fachhochschule）担任讲师，为工程专业学生讲授 "微纳米技术"。2002年，他成为聚合物纳米技术小组（INKA-PSI）负责人。在2011年公休假期，他受聘于丹麦技术大学（DTU），担任微纳米技术系光流体小组的客座教授（Velux 补助金）。H. Schift博士合著撰写了140篇科学论文（包括综述和书籍章节），并担任《NaPa 工艺图书馆》的编辑。他曾指导过多个科学项目，并参加过多个博士评审团。此外，H. Schift博士还在欧洲FP7 NaPANIL项目（2008-2012 年）中担任子项目负责人，其工作时间超过1000人月。他曾获瑞士技术奖（2005 年，Sonderpreis Ostschweizer Kantone）和纳米压印先锋奖（2016 年）。2016 年，他被《AVS 真空科技期刊》评为最有价值的审稿人之一。自 2019 年起，H. Schift博士担任 PSI 研究诚信顾问（30%）。为此，他于2021年在苏黎世大学完成了应用伦理学 MAS（高级研究硕士）课程的学习。

       个人简介：1999年于南京大学化学化工学院获高分子化学与物理博士学位，1999年11月到2000年12月，上海有机化学研究所博士后；2001年到2003年，美国普林斯顿大学电子工程系博士后；2005年1月到10月，美国加州大学洛杉矶分校机械与航空航天系访问学者。2004年1月起在南京大学现代工程与应用学院材料科学与工程系任副教授、教授。主要从事微纳加工技术与纳米压印技术的研究，研发了数种新型纳米压印材料；发展了复合高分子压印模板与曲面纳米压印技术；研制的紫外光固化和热压两用纳米压印设备已被国内外多家科研机构与生产企业所采用。在Nano Lett.、Adv.Func.Mater.、Appl.Phys.Lett.等国际学术刊物上发表论文40余篇，国内国际发明专利10多项。

       个人简介：06年北京大学化学博士学位，09年瑞典隆德大学物理博士学位。国内最早从事纳米压印技术研究的科研工作者之一，01年在北大研究生期间即开始了对该技术的科学研究，其后留学瑞典进一步深造纳米压印技术，并开始参与工业化项目的研发。毕业后以纳米压印专家的身份加盟Obducat公司，先后担任SMASH、ANIP等欧盟项目的技术负责人，以及LED衬底PSS（蓝宝石图案化衬底）、面板级铝线栅WGP、AR/VR光学元器件等多个产业化项目的技术负责人。

个人简介：博士曾在纳米技术和先进科学系统领域担任过重要领导职务。他曾担任Raith集团的首席执行官，该集团是纳米制造和表征系统的全球领导者。Raith在半导体技术、量子技术和材料科学等关键行业的创新方面享有盛誉。  

在加入Raith之前，Steigerwald博士曾担任多个管理职位，最近担任过美国KLA公司的高级工程总监，该公司是半导体生产中晶圆和掩模缺陷检测系统的领先制造商；在此之前，他曾在美国皮博迪的科学光学公司卡尔蔡司（Carl Zeiss）旗下的离子显微创新中心担任总经理，还曾在德国奥伯科亨的卡尔蔡司NTS公司担任高级研发经理。

摘要：RAITH是无掩模纳米制造系统和表征解决方案的全球市场和技术领导者。我们将独特的高精度产品、集成解决方案和专有技术结合在一起，推动创新，服务于各行各业和各种应用。在题为“纳米印刷母版制作”的演讲中，我们将向观众介绍我们的公司，并展示我们在纳米压印过程中从设计到批量生产的解决方案，重点介绍电子束和激光束光刻技术、自动化二维计量和过程控制以及潜在的三维分析方法。

个人简介：

王大伟会长

深圳标准专家库专家 长三角第三代半导体产业顾问/MEMS知识产权联盟产业顾问

中国中小企业国际合作协会常务理事

深圳市微纳制造产业促进会会长/现代商业发展研究中心院长

微纳制造综合服务平台【微纳视界】创办人

曾担任全球500强企业区域品牌负责人及国内民族品牌企业总经理职务，带领企业数字化转型。曾深度参与深圳市中以、中德、中新创新创业直通车机制建设，其创办的现代商业发展研究中心为授权运营机构之一。

近年围绕微纳制造技术产业化，落地科技产业保障体系4+1建设的实战案例，同步向微纳制造技术应用型企业开展技术资产，技术品牌，技术生态等技术战略咨询工作。

       个人简介：Lars Montelius教授自2014年9月1日起担任葡萄牙布拉加地区伊比利亚国际纳米技术实验室总监。他是瑞典隆德大学纳米科技方面的教授。2003-2009年期间担任隆德大学科学与工程学院物理系主任。2009-2011年担任Øresund大学及Øresund科学区总监，该组织是Øresund地区11所大学、3个地区政府及2个国家的跨境合作机构。Lars Montelius教授在2007-2012年期间担任瑞典纳米科技标准化技术委员会主席。他是瑞典多家纳米科技公司的创始人。曾担任国际真空科学技术与应用联盟主席，同时还是欧盟NMBP(纳米科技，先进材料，生物技术及先进制造处理)专家组决策层成员以及欧洲两大科技平台NANOFutures和EuMat的董事会成员及工作组负责人。Lars Montelius教授在纳米科技领域从业30年，工作围绕应用于多种纳米设备的光刻及处理技术。特别是在纳米压印及光刻方面，他和他的团队发表了多篇有影响力的论文。Lars Montelius教授已发表论文超过170篇，受邀发表演讲80多次，并且已经申请了54个专利。

个人简介：

陈勇博士于1982年获得武汉大学物理学学士学位，于1983年和1986获得法国蒙彼利埃大学硕士和博士学位。随后三年，他分别在比萨高等师范学院和北京大学担任副研究员。1990年，他加入法国国家科学研究中心（CNRS），担任研究主管（一级），并于 1998 年成为研究主任（二级）。最终，他于2003 年来到巴黎高等师范学院（ENS）担任教授，组建成立了现在的跨学科研究实验室。他现任法国国家科学研究中心研究主任（一级）、京都大学细胞材料综合科学研究所（iCeMS）兼职教授和香港理工大学特聘讲座教授。超过25年来，他一直从事与纳米科技相关的各领域的工作，包括半导体量子异质结构、光子晶体、扫描近场光学显微镜、磁性纳米结构、基于同步加速器的 X 射线光刻、热纳米和紫外纳米压印光刻等。在过去十年中，他主要关注微流控技术及其在分子和细胞生物学中的应用。他撰写或合作撰写了400多篇科学论文，其中300多篇发表在同行评审期刊（ISI 科学网）上，10篇发表在书籍章节中。他还参与了大量的欧洲合同研究项目/网络和国家项目。最后，他还指导了 40多项跨学科研究领域的博士和博士后研究工作。

个人简介：彭慧芝是中国香港城市大学电子工程学系讲席教授兼生物系统、神经科学及纳米科技中心主任。她发表的技术文章、书籍章节和特邀演讲累计400多篇。她在纳米技术和微系统领域获得了十项专利，另有四项专利正在申请中。她的研究兴趣包括生物医学、微机电、太赫兹和元设备的纳米制造技术。彭教授是 IEEE（电子电气工程师学会）、ECS（美国电化学协会）、AVS（美国真空协会）和 HKIE（香港工程师学会）会员。

个人简介：

1981 年，他加入松下电器公司，在半导体研究中心开发精密光刻工艺。

1996 年，他成为大阪府立大学机械系统工学副教授，并从 1998 年开始研究纳米压印光刻技术。 2004 年晋升为大阪府立大学物理电子工程系教授。他的研究兴趣是微纳米光刻技术，其专业领域是光刻、电子和纳米压印光刻技术领域的模拟和建模。

2022 年，他从大阪府立大学退休，现任大阪都立大学（大阪府立大学和大阪市立大学于 2022 年合并成立）研究员。

曾任日本应用物理学会纳米压印技术研讨会主席、纳米压印和纳米印刷会议国际委员会委员、微纳米工程会议国际委员会委员。

他是日本应用物理学会会士。

摘要：

在纳米压印中，树脂填充到模具图案的过程和脱模这两个过程是至关重要的。

本演讲将从宏观角度和分子水平角度讨论基本机理，对比基于连续介质动力学和分子动力学的模拟以及实验工作。

本演讲还将展示缺陷消除的最终解决方案 (or 还是 of)。

此外，本演讲还将介绍作为 AR/VR 设备特征结构的倾斜衍射光栅的脱模过程，以及对脱模方法和材料特性的分析结果。

个人简介：

郭凌杰是密西根大学电气与计算机工程系教授。他从事跨学科研究，研究范围包括基于聚合物的光子器件和传感器应用、柔性透明导体、纳米光子学、结构色彩和人工智能辅助设计、混合光伏和光电探测器，以及纳米制造技术，并由来自电气工程与光学、高分子科学与工程、应用物理学、物理学和机械工程专业的学生共同参与。郭教授共计发表了超过285篇期刊论文，被引用超过32,000次，H指数为 89（谷歌学术）。近年来，他获得多项著名奖项，其中包括密歇根大学颁发的2023年微型世界卓越工程奖（Wise-Najafi Prize for Engineering Excellence in the Miniature World）、2017年香港大学蒙民伟杰出讲师奖（William Mong Distinguished Lecturer）和2015年密歇根大学工程学院颁发的门罗-布朗卓越研究奖（Monroe-Brown Research Excellence Award）。他的专业服务包括《Optica》杂志副主编（至2021年）；目前他是《Advanced Optical Materials》和《Opto-electric Science》杂志编辑顾问委员会成员。此外，他还共同创办了两家创业公司，负责将其实验室的技术产业化。

Biography：Patrik Lundström is the Chief Executive Officer of Obducat Group. He holds an MSc in Business Administration from Lund University. Patrik Lundström has more than 25 years’ experience from electronics and semiconductor industry with focus on management, sales, R&D as well as manufacturing. Patrik joined Obducat in 2000 and was appointed CEO in 2002. Before joining Obducat Patrik worked at Meget AB (now part of Assa Abloy), a leading player within the RFID industry. Early on Patrik worked with electronics manufacturing having the responsibility for a lithography department.

      个人简介：罗锋，南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院讲席教授。罗锋现任南开大学材料科学与工程学院讲席教授，西安交通大学兼职讲座教授(2018-2020)。1995 年至 2004 年就读于北京大学化学与分子工程学院，获学士和博士学位。2004年至 2009年在德国和瑞士从事博后工作，2009年至2010年在北京大学工学院担任PI特聘研究员。2010年至2020年就职于西班牙高等研究院纳米研究所，历任副研究员、研究员、终身制资深研究教授，2020 年至今就职于南开大学，先后入选欧盟玛丽居里学者、西班牙杰出青年基金、西班牙 I3 杰出教授、第十五批国家重大人才项目等，目前担任深圳综合粒子研究院科创委委员，深圳产业光源集成电路板块顾问，上海光源用户委员会委员，兰州航空集成电路与新材料研究院理事。

       个人简介：06年北京大学化学博士学位，09年瑞典隆德大学物理博士学位。国内最早从事纳米压印技术研究的科研工作者之一，01年在北大研究生期间即开始了对该技术的科学研究，其后留学瑞典进一步深造纳米压印技术，并开始参与工业化项目的研发。毕业后以纳米压印专家的身份加盟Obducat公司，先后担任SMASH、ANIP等欧盟项目的技术负责人，以及LED衬底PSS（蓝宝石图案化衬底）、面板级铝线栅WGP、AR/VR光学元器件等多个产业化项目的技术负责人。

个人简介：苏州大学教授，苏州苏大维格科技集团董事长。国家863计划重大项目和国家重大科学仪器专项首席专家。中国工程院院士有效候选人（2013年）。主要研究方向：微纳光学及创新应用。

摘要：报告介绍微纳智能制造前瞻研究、技术创新和应用现状与展望。

信息光子产业是21世纪战略性产业，“微纳智能制造”是推进信息光子产业（元宇宙）发展的必由之路。

微纳智能制造的核心问题是光场数字化。报告人所在团队经多年努力，建立了“基于数字化三维光刻的微纳智能制造”平台，在海量数据处理算法、微纳结构精确制备、光场调控与重构和智能复制等方面，突破了百Tb数据量实时计算瓶颈、自主研制成功“网络协同的紫外三维计算光刻装备”（全球首台）和“卷对卷套准纳米压印光刻设备”工业运行，列举了微纳智能制造赋能“新型显示（裸眼3D显示）、增强现实AR、平面成像器件和柔性光电子材料”产业创新与应用的实例。

报告认为，“一代装备、一代器件、一代产业”，微纳智能制造正成为信息光电子、光场计算成像和元宇宙等赛道的新引擎，有望催生更多新产品、培育新产业，提升我国信息光子产业自主创新能力与国际竞争力。

      个人简介：冀然，青岛天仁微纳科技有限责任公司董事长，创始人。拥有德国亚琛工业大学硕士学位和德国马普微结构物理所博士学位，师从欧洲纳米压印之父Kurz教授开创了纳米压印设备和材料的商用领域，在纳米压印和微纳加工领域拥有二十年经验。博士毕业后在德国半导体设备上市公司负责纳米压印设备开发和产业化推广，任纳米压印技术首席科学家。2015年归国创办青岛天仁微纳科技有限责任公司，经过短短几年的时间发展，公司的纳米压印设备和全套解决方案打败国际诸多竞争对手，占领国内微纳光学和生物芯片生产的超过90%市场份额。

Biography: Dr. DU Kaikai is from Moldnano (Hangzhou) Technology Co., Ltd. Dr. Du is focused on the design and fabrication of micro-nano optical devices. He is the co-founder and CEO of Moldnano, which is the first company in China to provide with AR waveguide hard masters. He has developed NIL masters with slanted grating, blazed grating and gradual depth gratings for AR waveguide, accelerating the progress of AR market. His interested areas also contain meta-optics, DOE and Fresnel lenses, helping with the miniaturization and performance of optical devices and equipment.

Abstract: AR is the next generation of mobile computing platform because of its ability to combine virtual images with the real world. AR is last wearable products and the best carrier of AI computing. It attracts great interests from both academic community and industrial community. There are many optical solutions for AR devices including Birdbath, freeform lens, reflective waveguide and diffractive waveguide. Diffractive waveguide is the potential choice of consumer device considering its optical performance, productivity and light weight. However, consumer devices demand extreme weight and thickness and rainbow effect is unacceptable. By applying semi-insulated type SiC as the substrate of AR waveguide, the grating period can be selected under 300nm, decreasing the rainbow effect. By using the high refractive index of SiC, a low refractive index protecting layer can be adopted on the waveguide, resulting in the ultra thin and light waveguide. The Fresnel prescription lenses are adopted for the vision correction to decrease the thickness and cost. Besides, the SiC waveguide with designed film layers can help with heat dissipation to reduce the risk of overheat crash of light engine. 

Biography：
Master’s degree from Institute of Mechanical Engineering, National Chung Hsing University

MIC Precision process equipment development engineer

MIC Vacuum and plasma application technology researcher

MIC Photo lithography and imprinting application equipment development team manager

Abstract：

Micro lens array components are widely used in optical or display products, MIC provides a method and related process equipment for quickly designing and manufacturing micro lens array components, we offer a simple production program planning and flexible equipment solution, provide users with more convenient fabricate micro structure and production.

个人简介：

程鑫教授1997年毕业于中国科学技术大学地球与空间科学系，1999年获斯坦福大学（Stanford University）地球化学硕士学位，2005年获密西根大学（The University of Michigan）电子工程专业博士学位。2005年2月-12月在普渡大学（Purdue University）进行博士后研究工作。2006年1月-2012年8月在德克萨斯农工大学（Texas A&M University）电子和计算机工程系任助理教授，2012年9月至12月任终身副教授。2013年1月-2020年5月，在南方科技大学全职工作，任材料科学与工程系教授和系负责人，兼任南科大分析测试中心负责人。自2020年6月起担任实验室与设备管理部部长。

从事半导体材料、器件和微纳加工方向的教学与科研工作。研究方向包括半导体光刻、纳米制造、纳米光学、有机半导体材料和器件、微机电系统（MEMS）和高级数字生物芯片等。

Biography：Su Shen,graduated from the Department of Optoelectronic Information Engineering at Zhejiang University, focuses on research and commercialization of micro/nano optical devices and nanoimprinting lithography technology. To date, he has published over 70 academic papers in related fields, applied for more than 40 patents, and received multiple national and provincial science and technology awards. His achievements in nanoimprinting technology have attracted industrial investment, leading to its successful application in the mass production of decorative films for electronic products. Additionally, he has combined microlens array imaging technique with nanoimprinting processes, which has been widely adopted by well-known domestic suppliers in the electronics industry. In the development of flexible micro/nano structure devices, he has significantly improved the external quantum efficiency of organic light-emitting devices, and his flexible metal mesh technology has been successfully applied in high-performance, large-format electromagnetic shielding and transparent touch devices.

Abstract： Grayscale lithography and nanoimprinting lithography are gaining increasing attention in the fabrication of functional devices due to their lightweight and high integration features. By designing device structures based on physical principles, 3D structure molds can be fabricated using grayscale lithography. When combined with the low-cost, high-volume advantages of nanoimprint technology, it enables the realization of many novel optoelectronic devices that were previously unimaginable. This presentation will focus on light field imaging devices as the main case study, introducing the core research achievements of the speaker and their team in this field, as well as their applications in the industry.

Biography：Dr. Bernd Dielacher is business development manager at EV Group (EVG) where he evaluates global market trends and develops growth opportunities for EVG’s bonding, lithography and nanoimprint businesses with a particular focus on the MEMS, biomedical technology and power device market.

Bernd holds a master’s degree in Microelectronics from Vienna University of Technology and received a PhD in Biomedical Engineering from ETH Zurich. 

个人简历：周郁博士（Stephen Y. Chou，1986 年获麻省理工学院博士学位），纳米压印光刻技术发明人，现任普林斯顿大学约瑟夫-埃尔金（Joseph C. Elgin）讲席教授。同时，他是三家初创公司的创始人和创始董事长：Nanonex 公司、NanoOpto 公司和 Essenlix 公司，并且也是 BioNano Genomics 公司的共同创始人。他是美国国家工程院院士（2007 年）、美国国家发明家学院院士（2013 年）、电气和电子工程师学会 Cledo Brunetti 奖获得者（2004 年）、电气和电子工程师学会纳米技术先驱奖获得者，纳米压印先驱奖获得者，帕卡德研究员，电气和电子工程师学会、美国真空学会（AVS）、美国光学学会（OSA，现为 Optica）和国际纳米制造学会（ISNM）研究员，以及其他多个奖项和荣誉称号获得者。